金属工件光学表面平面抛光机精磨与抛光处理
2019-05-29 19:31:10
光学工件表面所运用精磨与抛光处理办法首要是依照其工件性质，在金属工件平面抛光机制作中这种进行工件表面精磨为初研磨，抛光处理为最终的研磨制作。 金属工件在制作中与镜片进行制作是相同的，一般工件会固定在夹具中，精磨的端面首要是将工件固定在平盘上，固定在研磨设备与抛光机主轴上，需求进行往复运动，其端面有必要要可以精确的进行研磨平坦处理，初研磨的时分选用刚玉加水，最终的抛光处理会运用氧化铬加水。 大型的研磨设备，首要是为了抛光巨型镜片而开展的，可以制作比较大的铸铁平板，在研磨盘上可以夹持较多的工件，可以得到小盘所需求的往复运动，进行调速。 工件球面形状以及直径精确要求比较高的工件，工件夹持在平面抛光机设备上，选用铸铁进行研磨罩作为工件，进行精磨处理，这种制作不需求进行最终的抛光，工件选用高压油密封，对应面进行运动，在进行氮化处理曾经，需求将形状砂轮加以研磨，最终进行工件表面抛光处理。
钢管缩径机
2019-03-18 11:00:17
钢管缩径机是目前冷拔管生产中钢管轧头工艺存在的管端需加热、轧头时噪音大、酸洗磷化处理不方便、工人操作条件恶劣等弊端，新装备钢管缩径机已经问世。
铜合金抛光
2017-06-06 17:50:03
铜合金抛光一、电解抛光 铜及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。 新配制的溶液，应进行通电处理。配方1通电量为5A·h／L，此时溶液中的含铜量为3g／L～5g／L；配方2通电量约为10A·h／L。表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范 在使用过程中，溶液的密度和各组分含量将发生变化，应经常测定密度并及时调整。配方2溶液中三价铬的含量(以Cr2O3计算)超过30g／L时，可以在阳极电流密度为l0A／dm2和温度为40℃～50℃下，用大面积阳极通电处理，将三价铬氧化为六价铬。不工作时，应将溶液盖严，以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。 。阴极表面的铜粉应经常除去。二、化学抛光铜和单相铜合金，可以在磷酸．硝酸．醋酸或硫酸．硝酸．铬酸型溶液中进行化学抛光。其工艺规范列于表2—4—5。表2—4—5 铜及其合金化学抛光工艺规范 在使用过程中，需经常补充硝酸，抛光时如果二氧化氮(黄烟)析出较少，零件表面呈暗红色时，可按配制量的l／3补充硝酸。为防止过量的水带入槽内，零件应干燥后，再行抛光。
铝的化学抛光和电解抛光
2019-03-01 10:04:59
铝材抛光是开发铝材多品种、多色系、亮光淡色和谐多彩铝的基础。是改动铝材色彩单一现状，前进铝材表面装饰效果的关键技能，亦是铝材更新换代与增值的首要途径。跟着商场对铝材质量、品种的需求越来越高，抛光铝材的发展前景越来越广大。化学抛光具有技能简略、抛光速度快、铝耗低、可用于凌乱工件、不用电力、出资少等特征，因而国外已运用了100多年。三酸抛光可得镜面亮光效果，但是在抛光进程中，发生有毒气体N0、N0x与酸雾，需妥善处理，一同槽液维护有必定的难度。二酸抛光的亮光度略低于三酸抛光，但抛光工件表面滑润细腻，亮光均匀的效果也很佳，仅次于三抛。由于抛光进程没有有毒气体发生，酸雾亦较轻，所以更具发展前景。各种抛光方法的比照见表5—5—16。
表5—5—l6各种抛光方法的比照表电解抛光化学抛光机械抛光由金属表面均匀溶解、呈镜面光泽
呈美丽之亮光
耐蚀性及亮光持续性杰出
适于软、硬两种金属
形状凌乱的物件也可抛光
铝合金较困难，纯铝抛光效果好
面积大者需用大设备设备
可用于精密机件上
作业需科学管理
技能凌乱呈镜面光泽
呈美丽亮光
较好
适于软、硬两种金属
形状凌乱的物件也可抛光
铝合金较困难，纯铝效果好
面积大者需用大设备设备
可用于精密机件上
作业较简略
技能较简略由金属表面的切削磨擦、呈滑润镜面
较劣
较劣
难于在软合金施行
形状凌乱物件抛光困难
铝合金也能够
无此困难
不适于精密机件上
作业简略
技能简略 一、化学抛光原理
在化学抛光进程，金属以离子方法转到溶液中，这些离子集合在被抛光金属的表面上，引起其附近电解层的粘度增大，金属与粘度大的液层接触时，其溶解速度比在新溶液中小，由于这一粘液层的比重增大，所以在金属与电解液界面大将发生对流表象，效果金属表面上凸起的有些比逗留有粘液层的凹入有些简略不带粘液层，电解液以较大的速度向凸起有些涣散，因而凸起有些溶解得更快，而粘液层维护着凹入有些不再受电解液的效果，也即溶解速度很小，然后达到了平整金属表面的抛光目的。
二、化学抛光技能
化学抛光技能已经有近百年的前史，配方许多，现在出产上运用较多的是：
①硫酸+磷酸+硝酸体系：三酸抛光
②硫酸+磷酸体系：两酸抛光
硫酸与磷酸的份额大致为l:4，硝酸含量为5%支配。一同，硝酸铜、硫酸铜、尿素、硫酸铵、大分子有机物如聚乙二醇等也作为添加剂参与，以抑制黄烟和前进抛光的亮度，但总体上来讲，三酸亮光较好但黄烟无法根柢消除，温度在高于85℃时搬运时刻要短，不然易发生“流痕”，而搬运时刻短，带出的槽液就多，致使本钱居高不下。两酸抛光效果决定于抛光添加剂的合理运用。
1)化学抛光槽液中各组分的效果
(1)磷酸：化学抛光液中磷酸含量较高，磷酸是中强酸，粘度较高，从前面所述的化学抛光机理可知，为了使微观凸处溶解削平，凹处溶解尽可能减少，型材表面上有必要要有一层粘膜层，磷酸与铝效果生成的磷酸铝便是粘度很大的粘膜层。
A1+7H3P04+5HN03=7A1P04+2N2+N02+13H20
磷酸铝从表面向溶液内有些散速度缓慢，在金属表面的微凹处，粘膜层较厚，溶解慢，在微凸处，溶解快，使凸处被溶解削平，所以酸性化学抛光液中有必要含较高磷酸，当磷酸缺乏时，抛光效果就变差。
(2)硫酸：它的效果是加快抛光速度，前进整平效果，太低(﹙8%)抛光速度慢，太高隆低抛光质量，硫酸在化学抛光进程中所起的化学反应式如下：
2A1+3H2S04=Al2(S04)3+3H2↑
A1203+3H2S04=Al2(S04)3+3H20
(3)硝酸：氧化性强酸，使用它可使铝表面生成氧化铝膜，一同又及时溶解氧化铝膜而生成，因而它对抛光质量起重要效果，太低(〈2%)抛光功用下降，太高(〉12%)易发生点腐蚀。3%～8%较好，硝酸在抛光时的化学反应如下：
2A1+6HN03=A1203+6N02↑+3H20
4A1+4HN03=2A203+4NO↑+2H20
A1203+6HN03=2Al(4N03)3+3H20
(4)重金属盐的效果：在酸性化学抛光液中参与Cu2+等重金属能前整性和反射率。首要铜离子在天然氧化的缺陷部位与金属铝基体发生置换反应而分出，然后在整个铝表面构成铜原子层。
3Cu2++2A1→2A13++3Cu↓
上述反应的发生使铝表面有层薄铜，铝溶解困难，氧化膜只能在有些表面重复溶解和再生，一同铜和基体发生电位差，又可推动凸部的溶解削平，然后前进了抛光效果。
(5)无烟化学抛光添加剂：代替硝酸消除黄烟，调度粘度，前进抛光质量，下降腐蚀速度，延伸搬运时刻，下降出产本钱。
各种化学抛光方法及技能条件见表5—5—17。
铝线机
2017-06-06 17:50:05
铝线机产品描述一、铜铝线自动收线机TLZR450/630型用途： 铜铝线自动收线机是电线电缆厂复绕散装捆扎式铜、铝线的专用设备。二、铜铝线自动收线机TLZR450/630型技术参数1、散装盘内径：450mm 2、散装盘外径：680mm3、复绕线材直径：铜0.3～2.8mm，铝1.3～3.8mm4、旋转臂刹车装置：磨擦压紧式5、放线盘范围：PN400、500、630型6、储线形式：悬臂式7、导轮直径：200mm8、收线盘范围：PN500～630mm9、动力：3kw（变频控制）或力矩电机YLJ132-40/6型10、收卷排线装置：光杠排线GP30型三、铜铝线自动收线机TLZR450/630型其产品具有以下特点：该设备解决了业界长期采用人工手持式复绕盘具之难题。该设备采用连环式刹车机构，复绕时不断线、不乱线。即可复绕散装铜铝线，又可复绕盘具上的多余线，一机两用。节省人工降低复绕成本，一人可操作多台自动收线机。想了解更多铝线机信息，请浏览上海
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电解抛光与化学抛光的区别
2019-03-11 13:46:31
电解抛光，是金属零件在特定条件下的阳极腐蚀。这一进程能改进金属表面的微观几许形状，下降金属表面的显微粗糙程度，然后到达使零件表面亮光的意图。 电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工，某些东西的表面精加工，或用于制取高度反光的表面以及用来制作金相试片等。 在不少场合下，电解抛光能够用来替代深重的机械抛光，尤其是形状比较杂乱，用机械办法难以加工的零件。可是，电解抛光不能去除或粉饰深划痕、深麻点等表面缺陷，也不能除掉金属中的非金属夹杂物。多相合金中，当有一相不易阳极溶解时，将会影响电解抛光的质量。 化学抛光，是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀进程中，金属表面被溶液浸蚀和整平，然后获得了比较亮光的表面。 化学抛光能够用于仪器、铝质反光镜的表面精饰，以及其它零件或镀层的装饰性加工。 同电解抛光比较，化学抛光的长处是：不需外加电源，能够处理形状更为杂乱的零件，出产功率高级，可是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光进程中会分出氧化氮等有害气体。 现在出产上选用的电抛光液主要有： ①硫酸、磷酸、铬酐组成的抛光液； ②硫酸和柠檬酸组成的抛光液； ③硫酸、磷酸、及甘油或相似化合物组成的混合抛光液。 铝及铝合金的电解抛光在出产上应用得比较广泛。抛光后的零件假如随即进行短时间的氧化处理，不仅能得到平坦亮光的外观还能构成完好的氧化膜，进步耐蚀性，能够长期保持其表面光泽。 化学抛光是在特定的溶液中对零件进行浸蚀整平的进程。化学抛光设备简略，能够处理形状比较杂乱的零件。缺陷足化学抛光的质量不如电解抛光。溶液的调整和再生也比较困难，在应用上受到限制。尤其是化学抛光操作进程中硝酸散发出很多黄棕色有害气体，对环境污染十分严峻。
电抛光液抛光质量的影响因素
2018-12-27 14:45:26
电抛光液抛光质量的影响因素：电抛光液抛光质量的影响因素主要有温度、时间、电流密度、阴极材料、搅拌条件等。 a.温度：温度对电抛光过程的影响很大。当电流密度一定时，随着电解液温度的升高，电抛光的速度增大。因为温度升高，溶液黏度降低，使对流作用加强，扩散速度加快，阳极附近溶液能迅速更新，从而有利于阳极溶解。温度低时，溶液导电性差，抛光缓慢;温度高时，溶液的扩散作用强，为了形成薄膜，同时也必须提高电流密度。但温度过高，阳极表面的电解液易发生过热，产生的气体和蒸气可能将电解液从电极表面排开，从而降低抛光效果，也很难用提高电流密度的方法来达到抛光的目的了。 b.时间：在电抛光开始的一段时间内，阳极表面的整平速度最大，以后就越来越小，甚至到某一时间后，再延长抛光时间，不仅不能使表面粗糙度降低，反而会使之增加。因此，抛光时间也应根据基体材料的性质、表面的原始状态、电抛光液的组成、电流密度和温度来决定。一般情况下，抛光时间随电流密度和温度的提高而缩短。为了使表面粗糙度降低，达到良好的抛光效果，应多采用反复多次抛光的办法，每次抛光的时间控制在许可的范围之内。 c.电流密度：电流密度根据材料的不同而不同。一般来说，电抛光的阳极电流密度应选择在阳极极化曲线的d点附近，这时极化较大，并有一定量的氧气析出，抛光速度快，能使表面达到最高的光洁度。提高电流密度，可得到光亮的表面，但是电流密度过高，则容易产生局部过热的烧焦和麻坑等现象;电流密度低于所需的极限时，金属表面易被腐蚀变得粗糙，不能达到抛光的效果。 d.阴极材料：电抛光的阴极一般都是铅板。采用不同的阴极材料时，所对应的电解液种类。从电流效率的观点来看，增大阴极面积是有利的，但是增大阴极面积会使六价铬还原成三价铬的速度加快，一般取面积比为阴极：阳极：(1-1.5)：1即可。 e.极间距离：在一般的电解处理中，电流有易于在电极周围集中的倾向，这样在处理大平板状的材料时，周围部分要比中部易于光泽化。为了抑制这种电流分布的不均匀性，就得把阳极面积做得比阴极面积大，并且加大电极间的距离。而电极间距离增大后，又使电能的消耗增加，所以根据电解液的电阻率、温度和电流密度的不同，电极间距离大都在10一60cm之间选择。 f.搅拌条件：搅拌可以使电解液的温度更均匀，防止表面局部过热，使阳极表面附近的溶液容易更新，从而增加黏膜的溶解速度和抛光速度，所以适当的搅拌可以提高电抛光的质量。同时，搅拌还可以赶走滞留在金属表面的气泡，以消除麻点和条痕。但是，搅拌的速度不宜过大，否则会使黏膜的溶解速度过快而影响抛光效果。实际生产中常采用移动阳极的方法来搅拌溶液，移动速度为6—10次/min(相当于1~2m/min)。
纯铜抛光
2017-06-06 17:50:04
纯铜抛光工艺简单，一般使用铜抛光剂进行对铜进行抛光。使用ST501铜化学抛光剂进行的纯铜抛光工艺十分简单，无二氧化氮逸出，操作方便,速度快，可达镜面光亮，是目前为止光亮效果最好的铜抛光剂之一. ST501铜化学抛光剂已通过SGS的环保检测，符合欧盟的ROHS标准。ST501铜化学抛光剂技术指标：1. 外观：红色透明液体2. 气味：无3. PH值：<1.04. 相对比重：1.25ST501铜化学抛光剂适用范围 ：铜及铜合金清洁光亮处理 适合表面：无油之清洁表面 使用方式：浸渍处理ST501铜化学抛光剂操作流程：除油除膜→漂洗→漂洗→光泽处理→漂洗→漂洗→纯水漂洗→抗氧化处理→纯水漂洗→冷风吹干→烘干ST501铜化学抛光剂注意事项：1. 工作液有一定腐蚀性，不宜与祼露皮肤接触，操作时应佩带乳胶手套 2. 处理件油污严重时，建议预作粗荒除油 3. 工作液处理一段时间后，由于有效浓度下降，铜离子增加，处理效果不佳，此时应更换新液 4. 应在通风良好之场所进行操作回答人的补充 2009-12-27 18:24通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成，两侧用
金属
圆板夹紧，其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时，高速旋转的抛光轮（圆周速度在20米／秒以上）压向工件，使磨料对工件表面产生滚压和微量切削，从而获得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可达Ra0.63～0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时，可对光亮表面消光以改善外观。大批量生产轴承钢球时，常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块，连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的，抛光液由粒度为W5～W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成，其运动轨迹为均匀稠密的网状，抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米，在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。纯铜抛光应用及其广泛。
稀土抛光粉
2017-06-06 17:50:13
稀土抛光粉中的稀土元素，是指稀土
金属
(rare earth metals)又称稀土元素,是元素周期表ⅢB族中钪、钇、镧系17种元素的总称,常用R或RE表示。稀土
金属
是60年代,稀土用作石油裂化催化剂和制取荧光粉。稀土抛光粉是由这些稀土元素所生产的抛光粉。抛光粉是工业用和制造加工业比较重要的添加剂之一，作用是使产品抛光。而稀土抛光粉则是以稀土为原材料制造的抛光粉，比之一般抛光粉稍贵。所谓稀土，是稀土家族是来自镧系的15个元素，加上与镧系相关密切的钪和钇共17种元素。它们是：镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钪、钇。金属
钕的最大用户是钕铁硼永磁材料。钕铁硼永磁体的问世，为稀土高科技领域注入了新的生机与活力。钕铁硼磁体磁能积高，被称作当代“永磁之王”，以其优异的性能广泛用于电子、机械等
行业
。稀土家族是来自镧系的15个元素，加上与镧系相关密切的钪和钇共17种元素。它们是：镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钪、钇。其中重要的一个功用就是永磁，钕(Nd) 。
金属
钕的最大用户是钕铁硼永磁材料。钕铁硼永磁体的问世，为稀土高科技领域注入了新的生机与活力。钕铁硼磁体磁能积高，被称作当代“永磁之王”，以其优异的性能广泛用于电子、机械等
行业
。1、稀土抛光粉的材料：为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3－8的氟；纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说，因为本身硬度较小，而且材料本身的氟含量较高，因此因选用不含氟的抛光粉为好。2、稀土抛光粉中氧化铈的颗粒度：粒度越大的氧化铈，磨削力越大，越适合于较硬的材料，ZF玻璃应该用偏细的抛光粉。要注意的是，所有的氧化铈的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必须控制抛光粉的最大颗粒。3、稀土抛光粉的硬度：抛光粉的真实硬度与材料有关，如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右，各种氧化铈都差不多。但不同的氧化铈体给人感觉硬度不同，是因为氧化铈抛光粉通常为团聚体，附图为一个抛光粉团聚体的电镜照片。由于烧成温度不同，团聚体的强度也不一样，因此使用时会有硬度不一样的感觉。当然，有的抛光粉中加入氧化铝等较硬的材料，表现出来的磨削率和耐磨性都会提高。4、稀土抛光粉浆料的浓度：抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低。5、抛光模的选择：抛光模应该用软一点的。应该指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。依我之间，最好使用不加抛光粉的抛光模。影响稀土抛光粉性能的指标：1、稀土抛光粉的粒度大小：决定了抛光精度和速度，常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。2、稀土抛光粉莫氏硬度：硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。3、稀土抛光粉悬浮性：好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液（剂）来改善。4、稀土抛光粉的晶型：粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。5、外观颜色：原料中Pr的含量及灼烧温度等因素有关，镨含量越高，其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨（铈镨料），使其显棕红色。高铈抛光粉，灼烧温度越高，其显偏白粉色，温度低（900度左右），其显淡黄色。综上所述，稀土抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。
稀土抛光粉
2017-06-06 17:50:13
稀土抛光粉种类繁多，样式多样，主要用于液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件。SHSP-100白色粉末REO≥99% CeO2/REO≥99% F＝5-7% D50: 0.8um天然水晶、液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件SHSP-205亮白色粉末REO≥94% CeO2/REO≥75% F＝4-5% D50:1.0-0.2um适合抛光各种平面或曲面的精密元件，光学透镜、反光镜、电视屏幕。SHSP-239浅白色粉末REO≥95% CeO2/REO≥90%D50:0.8um-1um F＝5-7%液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件。SHSP-388-3浅棕红色、 白色粉末REO≥90% CeO2/REO≥75%D50：2um-2.5um F＝4-5%工艺玻璃、平板玻璃、抛光轮、抛光片及饰品的抛光SHSP-389-2白色粉末REO≥90% CeO2/REO≥75% F＝4-5% D50: 1um-1.5um荧光屏、显示屏玻璃、电视玻壳、眼镜片、均胶络板、手机玻璃、手表玻璃、工艺玻璃及饰品的抛光SHSP-577浅棕红 色粉末REO≥88% CeO2/REO≥48%D50:6.5±0.5um F＝0.3-4%用于显像管、玻璃、眼镜片的抛光SHSP-999浅白色粉末REO≥95% CeO2/REO≥75% F＝5-7% D50: 0.8um液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件想要了解更多关于稀土抛光粉的信息，请继续浏览上海
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