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硅片抛光百科

多晶硅片

2017-06-06 17:50:04

多晶硅片是制作太阳能电池的核心材料,产品被广泛应用于光伏发电、通讯、交通以及偏远地区居民的生产、生活供电等领域,还可以应用于太阳能灯、草坪灯和屋顶太阳能光伏发电等新的领域。  运用垂直梯度凝固技术和多线网切割技术加工而成,在晶体生长速率和退火,能有效保证晶体的晶向和结晶速度,从而确保多晶硅片的稳定性和高转化率。  一种用于生产太阳能电池的多晶硅片的制造方法,是将熔融的硅熔体注入到一个狭缝,硅熔体在狭缝的耐高温面上结晶,在狭缝空间的约束下,结晶成指定厚度的多晶硅片。它是一种使熔融状态的硅直接结晶成薄片硅的方法,因此可以提高硅材料的利用率,可以制造出200微米以下厚度的硅片,从而降低太阳能电池的成本。

多晶硅片功率

2017-06-06 17:50:13

我国是能源消耗大国,石油、煤炭等能源资源稀少,太阳能利用技术的研究有十分重要的意义。而多晶硅片是太阳能电池的主要材料的一种型号。当前,衡量各种太阳能电池组件电性能的主要指标是在标准测试条件下的额定输出功率。  由于光照变化,太阳能电池组件的输出功率也在不断变化,因此,在实际使用时,仅以额定输出功率衡量太阳能电池组件的电性能,不能完全反映其实际发电效能。对用户来说,更关心的是在户外条件下太阳能电池组件每瓦在一段时间内的比额定功率发电量,包括这段时间内所有户外光照情况下的发电量总和,它能较好反映太阳能电池组件在应用中的实际发电能力。由于地球上的纬度不同,日照和气候条件差别很大,而太阳能电池对日照条件非常敏感,因此,在某一地点得出的实验结论,在其他地点是否相同,尚需进一步验证。为了便于比较分析,本文针对地处北纬22.16°、东经114.1°深圳地区的非晶硅和单、多晶硅太阳能电池组件的比额定 功率发电量进行模拟,并对其结果进行了分析。  介绍和比较了非晶硅和单、多晶硅太阳能电池组件的优缺点。针对它们在并网光伏发电系统中的应用,采用PVsyst 软件对各种太阳能电池组件的比功率发电量进行模拟。结果表明,非晶硅太阳能薄膜电池板的比功率发电量大于单、多晶硅的比功率发电量。PVsyst 软件中图分类号:TM914.4 文献标识码:A 文章编号:1007-3175(2010)04-0030-03 几种太阳能电池组件比功率发电量的模拟与比较 31 电工电气 (2010 No.4) 生产技术成熟,是光伏 市场 上的主导产品。国际公认最高效率在AM1.5( 即大气质量1.5) 条件下为 24%,空间用高质量的效率在AM0( 即大气质量为0,日- 地平均距离为一个天文单位时,太阳的总辐射度和光谱分布) 条件下为13.5% ~18%,地面用大量生产的在AM1 条件下多在11% ~18%。大晶粒多晶硅太阳能电池的转换效率最高达18.6%。多晶硅 太阳能电池没有光致衰退效应,材料质量有所下降时也不会导致太阳能电池受影响,是国际上正掀起的前沿性研究热点。随硅元件使用的多少以及纯度的改变,单件功率不确定,同样面积的板块功率可以变化。薄膜晶体硅太阳能电池能够大大降低晶硅用量,但目前还处于研发阶段,尚未工业化。晶体硅片太阳能电池的优点是可在单位面积上获得较高的发电功率和稳定的发电性能。如果其中一小部分被遮挡,会产生孤岛效应,但由于其强光发电的特性,只有保障与阳光的合理角度才能达到应有的光电转换率,因此必须考虑安装角度问题,这使得可安装的总面积和平面布局都受到限制。

多晶硅片产能

2017-06-06 17:50:10

        江西赛维LDK太阳能高科技有限公司多晶硅片产能达到1000兆瓦,该公司成为全球产能最大的多晶硅制造企业后,进一步成为世界首个实际产能进入吉瓦(GW)俱乐部的光伏企业。  仅经过短短3年时间的发展,今天的赛维已经是全球最大的太阳能硅片供应商。在当前能源资源紧缺的形势下,发展光伏 产业 ,推动太阳能的广泛应用意义重大。    祝赛维LDK多晶硅片产能达到1000兆瓦,这不仅是赛维公司发展史上具有里程碑意义的大事、喜事,也是全市经济发展中的一大盛事,对于推动新余加快光伏 产业 发展,打造世界重要光伏 产业 基地具有十分重要的意义。     维公司多晶硅片产能达到1000兆瓦,这是公司广大员工励精图治、锐意进取、敢有作为、善于作为的结果,也是我市深入实施以新型工业化为核心的发展战略,举全市之力支持光伏 产业 发展所取得的重大成果。

多晶硅片项目

2017-06-06 17:50:10

       浙江昱辉阳光能源有限公司多晶厂第一台开方机调试成功,顺利将试生产的多晶硅锭进行了开方,这标志着公司多晶硅片项目已经进入试生产阶段。     公司从德国进口的多晶炉设备,能生产目前国内最大尺寸的多晶硅锭,单锭重量达400公斤以上。     公司采用了世界先进的顶底加热方式的长晶工艺。据技术人员介绍,这种工艺不仅可以实现高效、安全、环保、低耗能,而且生产出硅锭的晶粒尺寸大、杂质低,更有利于提高电池片的转换效率。     浙江昱辉董事长兼总经理李仙寿介绍说,此次调试成功表明,公司已经具备独立生产多晶硅片的能力。李仙寿表示,多晶硅片项目正式投产后,公司将形成月产1000万片硅片的能力。   

铜合金抛光

2017-06-06 17:50:03

铜合金抛光一、电解抛光 铜及其合金的电解抛光,广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。 新配制的溶液,应进行通电处理。配方1通电量为5A·h/L,此时溶液中的含铜量为3g/L~5g/L;配方2通电量约为10A·h/L。表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范                              在使用过程中,溶液的密度和各组分含量将发生变化,应经常测定密度并及时调整。配方2溶液中三价铬的含量(以Cr2O3计算)超过30g/L时,可以在阳极电流密度为l0A/dm2和温度为40℃~50℃下,用大面积阳极通电处理,将三价铬氧化为六价铬。不工作时,应将溶液盖严,以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。    。阴极表面的铜粉应经常除去。二、化学抛光铜和单相铜合金,可以在磷酸.硝酸.醋酸或硫酸.硝酸.铬酸型溶液中进行化学抛光。其工艺规范列于表2—4—5。表2—4—5  铜及其合金化学抛光工艺规范                                在使用过程中,需经常补充硝酸,抛光时如果二氧化氮(黄烟)析出较少,零件表面呈暗红色时,可按配制量的l/3补充硝酸。为防止过量的水带入槽内,零件应干燥后,再行抛光。 

铝的化学抛光和电解抛光

2019-03-01 10:04:59

铝材抛光是开发铝材多品种、多色系、亮光淡色和谐多彩铝的基础。是改动铝材色彩单一现状,前进铝材表面装饰效果的关键技能,亦是铝材更新换代与增值的首要途径。跟着商场对铝材质量、品种的需求越来越高,抛光铝材的发展前景越来越广大。化学抛光具有技能简略、抛光速度快、铝耗低、可用于凌乱工件、不用电力、出资少等特征,因而国外已运用了100多年。三酸抛光可得镜面亮光效果,但是在抛光进程中,发生有毒气体N0、N0x与酸雾,需妥善处理,一同槽液维护有必定的难度。二酸抛光的亮光度略低于三酸抛光,但抛光工件表面滑润细腻,亮光均匀的效果也很佳,仅次于三抛。由于抛光进程没有有毒气体发生,酸雾亦较轻,所以更具发展前景。各种抛光方法的比照见表5—5—16。   表5—5—l6各种抛光方法的比照表电解抛光化学抛光机械抛光由金属表面均匀溶解、呈镜面光泽 呈美丽之亮光 耐蚀性及亮光持续性杰出 适于软、硬两种金属 形状凌乱的物件也可抛光 铝合金较困难,纯铝抛光效果好 面积大者需用大设备设备 可用于精密机件上 作业需科学管理 技能凌乱呈镜面光泽 呈美丽亮光 较好 适于软、硬两种金属 形状凌乱的物件也可抛光 铝合金较困难,纯铝效果好 面积大者需用大设备设备 可用于精密机件上 作业较简略 技能较简略由金属表面的切削磨擦、呈滑润镜面 较劣 较劣 难于在软合金施行 形状凌乱物件抛光困难 铝合金也能够 无此困难 不适于精密机件上 作业简略 技能简略  一、化学抛光原理   在化学抛光进程,金属以离子方法转到溶液中,这些离子集合在被抛光金属的表面上,引起其附近电解层的粘度增大,金属与粘度大的液层接触时,其溶解速度比在新溶液中小,由于这一粘液层的比重增大,所以在金属与电解液界面大将发生对流表象,效果金属表面上凸起的有些比逗留有粘液层的凹入有些简略不带粘液层,电解液以较大的速度向凸起有些涣散,因而凸起有些溶解得更快,而粘液层维护着凹入有些不再受电解液的效果,也即溶解速度很小,然后达到了平整金属表面的抛光目的。   二、化学抛光技能   化学抛光技能已经有近百年的前史,配方许多,现在出产上运用较多的是:   ①硫酸+磷酸+硝酸体系:三酸抛光   ②硫酸+磷酸体系:两酸抛光   硫酸与磷酸的份额大致为l:4,硝酸含量为5%支配。一同,硝酸铜、硫酸铜、尿素、硫酸铵、大分子有机物如聚乙二醇等也作为添加剂参与,以抑制黄烟和前进抛光的亮度,但总体上来讲,三酸亮光较好但黄烟无法根柢消除,温度在高于85℃时搬运时刻要短,不然易发生“流痕”,而搬运时刻短,带出的槽液就多,致使本钱居高不下。两酸抛光效果决定于抛光添加剂的合理运用。   1)化学抛光槽液中各组分的效果   (1)磷酸:化学抛光液中磷酸含量较高,磷酸是中强酸,粘度较高,从前面所述的化学抛光机理可知,为了使微观凸处溶解削平,凹处溶解尽可能减少,型材表面上有必要要有一层粘膜层,磷酸与铝效果生成的磷酸铝便是粘度很大的粘膜层。   A1+7H3P04+5HN03=7A1P04+2N2+N02+13H20   磷酸铝从表面向溶液内有些散速度缓慢,在金属表面的微凹处,粘膜层较厚,溶解慢,在微凸处,溶解快,使凸处被溶解削平,所以酸性化学抛光液中有必要含较高磷酸,当磷酸缺乏时,抛光效果就变差。   (2)硫酸:它的效果是加快抛光速度,前进整平效果,太低(﹙8%)抛光速度慢,太高隆低抛光质量,硫酸在化学抛光进程中所起的化学反应式如下:   2A1+3H2S04=Al2(S04)3+3H2↑   A1203+3H2S04=Al2(S04)3+3H20   (3)硝酸:氧化性强酸,使用它可使铝表面生成氧化铝膜,一同又及时溶解氧化铝膜而生成,因而它对抛光质量起重要效果,太低(〈2%)抛光功用下降,太高(〉12%)易发生点腐蚀。3%~8%较好,硝酸在抛光时的化学反应如下:   2A1+6HN03=A1203+6N02↑+3H20   4A1+4HN03=2A203+4NO↑+2H20   A1203+6HN03=2Al(4N03)3+3H20   (4)重金属盐的效果:在酸性化学抛光液中参与Cu2+等重金属能前整性和反射率。首要铜离子在天然氧化的缺陷部位与金属铝基体发生置换反应而分出,然后在整个铝表面构成铜原子层。   3Cu2++2A1→2A13++3Cu↓   上述反应的发生使铝表面有层薄铜,铝溶解困难,氧化膜只能在有些表面重复溶解和再生,一同铜和基体发生电位差,又可推动凸部的溶解削平,然后前进了抛光效果。   (5)无烟化学抛光添加剂:代替硝酸消除黄烟,调度粘度,前进抛光质量,下降腐蚀速度,延伸搬运时刻,下降出产本钱。   各种化学抛光方法及技能条件见表5—5—17。

电解抛光与化学抛光的区别

2019-03-11 13:46:31

电解抛光,是金属零件在特定条件下的阳极腐蚀。这一进程能改进金属表面的微观几许形状,下降金属表面的显微粗糙程度,然后到达使零件表面亮光的意图。  电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工,某些东西的表面精加工,或用于制取高度反光的表面以及用来制作金相试片等。  在不少场合下,电解抛光能够用来替代深重的机械抛光,尤其是形状比较杂乱,用机械办法难以加工的零件。可是,电解抛光不能去除或粉饰深划痕、深麻点等表面缺陷,也不能除掉金属中的非金属夹杂物。多相合金中,当有一相不易阳极溶解时,将会影响电解抛光的质量。  化学抛光,是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀进程中,金属表面被溶液浸蚀和整平,然后获得了比较亮光的表面。  化学抛光能够用于仪器、铝质反光镜的表面精饰,以及其它零件或镀层的装饰性加工。  同电解抛光比较,化学抛光的长处是:不需外加电源,能够处理形状更为杂乱的零件,出产功率高级,可是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光进程中会分出氧化氮等有害气体。  现在出产上选用的电抛光液主要有:  ①硫酸、磷酸、铬酐组成的抛光液;  ②硫酸和柠檬酸组成的抛光液;  ③硫酸、磷酸、及甘油或相似化合物组成的混合抛光液。  铝及铝合金的电解抛光在出产上应用得比较广泛。抛光后的零件假如随即进行短时间的氧化处理,不仅能得到平坦亮光的外观还能构成完好的氧化膜,进步耐蚀性,能够长期保持其表面光泽。  化学抛光是在特定的溶液中对零件进行浸蚀整平的进程。化学抛光设备简略,能够处理形状比较杂乱的零件。缺陷足化学抛光的质量不如电解抛光。溶液的调整和再生也比较困难,在应用上受到限制。尤其是化学抛光操作进程中硝酸散发出很多黄棕色有害气体,对环境污染十分严峻。

电抛光液抛光质量的影响因素

2018-12-27 14:45:26

电抛光液抛光质量的影响因素:电抛光液抛光质量的影响因素主要有温度、时间、电流密度、阴极材料、搅拌条件等。  a.温度:温度对电抛光过程的影响很大。当电流密度一定时,随着电解液温度的升高,电抛光的速度增大。因为温度升高,溶液黏度降低,使对流作用加强,扩散速度加快,阳极附近溶液能迅速更新,从而有利于阳极溶解。温度低时,溶液导电性差,抛光缓慢;温度高时,溶液的扩散作用强,为了形成薄膜,同时也必须提高电流密度。但温度过高,阳极表面的电解液易发生过热,产生的气体和蒸气可能将电解液从电极表面排开,从而降低抛光效果,也很难用提高电流密度的方法来达到抛光的目的了。  b.时间:在电抛光开始的一段时间内,阳极表面的整平速度最大,以后就越来越小,甚至到某一时间后,再延长抛光时间,不仅不能使表面粗糙度降低,反而会使之增加。因此,抛光时间也应根据基体材料的性质、表面的原始状态、电抛光液的组成、电流密度和温度来决定。一般情况下,抛光时间随电流密度和温度的提高而缩短。为了使表面粗糙度降低,达到良好的抛光效果,应多采用反复多次抛光的办法,每次抛光的时间控制在许可的范围之内。  c.电流密度:电流密度根据材料的不同而不同。一般来说,电抛光的阳极电流密度应选择在阳极极化曲线的d点附近,这时极化较大,并有一定量的氧气析出,抛光速度快,能使表面达到最高的光洁度。提高电流密度,可得到光亮的表面,但是电流密度过高,则容易产生局部过热的烧焦和麻坑等现象;电流密度低于所需的极限时,金属表面易被腐蚀变得粗糙,不能达到抛光的效果。  d.阴极材料:电抛光的阴极一般都是铅板。采用不同的阴极材料时,所对应的电解液种类。从电流效率的观点来看,增大阴极面积是有利的,但是增大阴极面积会使六价铬还原成三价铬的速度加快,一般取面积比为阴极:阳极:(1-1.5):1即可。  e.极间距离:在一般的电解处理中,电流有易于在电极周围集中的倾向,这样在处理大平板状的材料时,周围部分要比中部易于光泽化。为了抑制这种电流分布的不均匀性,就得把阳极面积做得比阴极面积大,并且加大电极间的距离。而电极间距离增大后,又使电能的消耗增加,所以根据电解液的电阻率、温度和电流密度的不同,电极间距离大都在10一60cm之间选择。  f.搅拌条件:搅拌可以使电解液的温度更均匀,防止表面局部过热,使阳极表面附近的溶液容易更新,从而增加黏膜的溶解速度和抛光速度,所以适当的搅拌可以提高电抛光的质量。同时,搅拌还可以赶走滞留在金属表面的气泡,以消除麻点和条痕。但是,搅拌的速度不宜过大,否则会使黏膜的溶解速度过快而影响抛光效果。实际生产中常采用移动阳极的方法来搅拌溶液,移动速度为6—10次/min(相当于1~2m/min)。

纯铜抛光

2017-06-06 17:50:04

纯铜抛光工艺简单,一般使用铜抛光剂进行对铜进行抛光。使用ST501铜化学抛光剂进行的纯铜抛光工艺十分简单,无二氧化氮逸出,操作方便,速度快,可达镜面光亮,是目前为止光亮效果最好的铜抛光剂之一. ST501铜化学抛光剂已通过SGS的环保检测,符合欧盟的ROHS标准。ST501铜化学抛光剂技术指标:1. 外观:红色透明液体2. 气味:无3. PH值:<1.04. 相对比重:1.25ST501铜化学抛光剂适用范围 :铜及铜合金清洁光亮处理   适合表面:无油之清洁表面   使用方式:浸渍处理ST501铜化学抛光剂操作流程:除油除膜→漂洗→漂洗→光泽处理→漂洗→漂洗→纯水漂洗→抗氧化处理→纯水漂洗→冷风吹干→烘干ST501铜化学抛光剂注意事项:1. 工作液有一定腐蚀性,不宜与祼露皮肤接触,操作时应佩带乳胶手套   2. 处理件油污严重时,建议预作粗荒除油   3. 工作液处理一段时间后,由于有效浓度下降,铜离子增加,处理效果不佳,此时应更换新液   4. 应在通风良好之场所进行操作回答人的补充   2009-12-27 18:24通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用 金属 圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时,高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件,使磨料对工件表面产生滚压和微量切削,从而获得光亮的加工表面,表面粗糙度一般可达Ra0.63~0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时,可对光亮表面消光以改善外观。大批量生产轴承钢球时,常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中,滚筒转动时,使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的,可去除0.01毫米左右的余量。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块,连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的,抛光液由粒度为W5~W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成,其运动轨迹为均匀稠密的网状,抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米,在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。纯铜抛光应用及其广泛。 

稀土抛光粉

2017-06-06 17:50:13

稀土抛光粉中的稀土元素,是指稀土 金属 (rare earth metals)又称稀土元素,是元素周期表ⅢB族中钪、钇、镧系17种元素的总称,常用R或RE表示。稀土 金属 是60年代,稀土用作石油裂化催化剂和制取荧光粉。稀土抛光粉是由这些稀土元素所生产的抛光粉。抛光粉是工业用和制造加工业比较重要的添加剂之一,作用是使产品抛光。而稀土抛光粉则是以稀土为原材料制造的抛光粉,比之一般抛光粉稍贵。所谓稀土,是稀土家族是来自镧系的15个元素,加上与镧系相关密切的钪和钇共17种元素。它们是:镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钪、钇。金属 钕的最大用户是钕铁硼永磁材料。钕铁硼永磁体的问世,为稀土高科技领域注入了新的生机与活力。钕铁硼磁体磁能积高,被称作当代“永磁之王”,以其优异的性能广泛用于电子、机械等 行业 。稀土家族是来自镧系的15个元素,加上与镧系相关密切的钪和钇共17种元素。它们是:镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钪、钇。其中重要的一个功用就是永磁,钕(Nd) 。 金属 钕的最大用户是钕铁硼永磁材料。钕铁硼永磁体的问世,为稀土高科技领域注入了新的生机与活力。钕铁硼磁体磁能积高,被称作当代“永磁之王”,以其优异的性能广泛用于电子、机械等 行业 。1、稀土抛光粉的材料:为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。2、稀土抛光粉中氧化铈的颗粒度:粒度越大的氧化铈,磨削力越大,越适合于较硬的材料,ZF玻璃应该用偏细的抛光粉。要注意的是,所有的氧化铈的颗粒度都有一个分布问题,平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢,而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必须控制抛光粉的最大颗粒。3、稀土抛光粉的硬度:抛光粉的真实硬度与材料有关,如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右,各种氧化铈都差不多。但不同的氧化铈体给人感觉硬度不同,是因为氧化铈抛光粉通常为团聚体,附图为一个抛光粉团聚体的电镜照片。由于烧成温度不同,团聚体的强度也不一样,因此使用时会有硬度不一样的感觉。当然,有的抛光粉中加入氧化铝等较硬的材料,表现出来的磨削率和耐磨性都会提高。4、稀土抛光粉浆料的浓度:抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时,浆料浓度因适当调低。5、抛光模的选择:抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。依我之间,最好使用不加抛光粉的抛光模。影响稀土抛光粉性能的指标:1、稀土抛光粉的粒度大小:决定了抛光精度和速度,常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。2、稀土抛光粉莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。3、稀土抛光粉悬浮性:好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液(剂)来改善。4、稀土抛光粉的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。5、外观颜色:原料中Pr的含量及灼烧温度等因素有关,镨含量越高,其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨(铈镨料),使其显棕红色。高铈抛光粉,灼烧温度越高,其显偏白粉色,温度低(900度左右),其显淡黄色。综上所述,稀土抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。

稀土抛光粉

2017-06-06 17:50:13

稀土抛光粉种类繁多,样式多样,主要用于液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件。SHSP-100白色粉末REO≥99% CeO2/REO≥99% F=5-7% D50: 0.8um天然水晶、液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件SHSP-205亮白色粉末REO≥94% CeO2/REO≥75% F=4-5% D50:1.0-0.2um适合抛光各种平面或曲面的精密元件,光学透镜、反光镜、电视屏幕。SHSP-239浅白色粉末REO≥95% CeO2/REO≥90%D50:0.8um-1um F=5-7%液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件。SHSP-388-3浅棕红色、 白色粉末REO≥90% CeO2/REO≥75%D50:2um-2.5um F=4-5%工艺玻璃、平板玻璃、抛光轮、抛光片及饰品的抛光SHSP-389-2白色粉末REO≥90% CeO2/REO≥75% F=4-5% D50: 1um-1.5um荧光屏、显示屏玻璃、电视玻壳、眼镜片、均胶络板、手机玻璃、手表玻璃、工艺玻璃及饰品的抛光SHSP-577浅棕红 色粉末REO≥88% CeO2/REO≥48%D50:6.5±0.5um F=0.3-4%用于显像管、玻璃、眼镜片的抛光SHSP-999浅白色粉末REO≥95% CeO2/REO≥75% F=5-7% D50: 0.8um液晶显示屏、LCD模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件想要了解更多关于稀土抛光粉的信息,请继续浏览上海 有色 网。

铝的化学抛光和电化学抛光概述

2018-12-27 14:45:24

一般工程应用的变形铝合金材料或建筑铝型材,其加工成型后的半成品,一般是可以直接进入阳极氧化生产线进行阳极氧化的,所获得的阳极氧化膜在许多工程应用上表现出了良好的防护性能,起表面基本上能够达到均匀一致的外观要求。机械抛光后的铝工件,若直接进行阳极氧化处理,只能获得平滑的阳极氧化膜,还不能得到高反射率的膜层。化学抛光或电化学抛光作为高级精饰处理方法,能去除铝制品表面较轻微的模具痕和擦划伤条纹,去除机械抛光中可能形成的摩擦条纹、热变形层、氧化膜层等,使粗糙的表面趋于光滑而获得近似镜面光亮的表面,提高了铝制品的装饰效果(如反射性能、光亮度等),并可以赋予更高的商业附加值,极大地满足了消费市场对具有光亮表面的铝制品要求。因此,对于需要表面平整、均匀又光亮等特殊外观要求的阳极氧化膜,则需要预先进行化学抛光或者电化学抛光。化学抛光和电化学抛光与机械抛光一样,是制备高精饰光亮铝制品表面处理过程中不可或缺的表面预处理技术,某些情形下可以作为最终的精饰手段。  化学抛光和电化学抛光可以使特殊铝材获得非常光亮的表面,但是从抛光原理上看,化学抛光(及电化学抛光)与机械抛光却有着本质的区别。机械抛光是利用物理手段通过切削与研磨等作用使铝材表面发生塑性形变,使得表面的凸部向凹部填平,从而使铝材表面粗糙度减小、变得平滑,改善了铝材的表面粗糙度,从而使其表面平滑或光亮。但是机械抛光会引起金属表面结晶的破坏、变质而产生塑性变形层,以及因局部加热而产生组织变化层。化学抛光是一种在特殊条件的化学腐蚀,它是通过控制铝材表面选择性的溶解,使铝材表面微观凸出部位较其他凹洼部位优先溶解,而达到表面平整和光亮的目的。电化学抛光又称电解抛光,其原理与化学抛光相似,也是依靠选择性溶解铝材表面表面微小凸出部分而达到平整光滑。铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中,以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极,根据电化学尖端放电原理,通电后铝材表面微小凸出部位优先溶解,与此同时溶解产物与表面的电解液形成高电阻的粘稠性液膜层,微小凸出部位膜层浇薄,其电阻较小,从而继续保持优先溶解。同时表面凹洼部位的液膜层厚,电阻增大,凹洼部位的溶解速度相对缓慢,经过短时间电解处理后,凸出部位先被溶解整平至凹洼部位的位置,铝材表面粗糙度降低而达到平滑光亮。铝的电化学抛光在有的文献上称为电抛光或电解抛光。在工业生产中,采用化学抛光或电化学抛光的主要目的,一是取代机械抛光而获得平滑的光亮铝材表面;二是在机械抛光后再进行化学抛光或电化学抛光,以获得非常高镜面反射率的铝材或铝零部件,达到表面增亮的目的。  化学抛光和电化学抛光与机械抛光相比较,具有以下的优点:①设备简单,工艺参数易于控制,可大大节省机械抛光需要的基建与设备费用,在某些情况下部分取代或继续机械抛光,表面光亮度更高;②可处理大型零部件或大批量的小型零部件,以及形状复杂而无法进行自动化机械抛光处理的工件,这种情况下机械抛光是无法替代的;③化学或电化学抛光后的表面洁净,无残留的机械抛光粉尘,有良好的抗腐蚀性;④化学抛光的表面镜面反射率更高,金属质感也更好,表面不会形成粉霜。

金属工件光学表面平面抛光机精磨与抛光处理

2019-05-29 19:31:10

光学工件表面所运用精磨与抛光处理办法首要是依照其工件性质,在金属工件平面抛光机制作中这种进行工件表面精磨为初研磨,抛光处理为最终的研磨制作。  金属工件在制作中与镜片进行制作是相同的,一般工件会固定在夹具中,精磨的端面首要是将工件固定在平盘上,固定在研磨设备与抛光机主轴上,需求进行往复运动,其端面有必要要可以精确的进行研磨平坦处理,初研磨的时分选用刚玉加水,最终的抛光处理会运用氧化铬加水。  大型的研磨设备,首要是为了抛光巨型镜片而开展的,可以制作比较大的铸铁平板,在研磨盘上可以夹持较多的工件,可以得到小盘所需求的往复运动,进行调速。  工件球面形状以及直径精确要求比较高的工件,工件夹持在平面抛光机设备上,选用铸铁进行研磨罩作为工件,进行精磨处理,这种制作不需求进行最终的抛光,工件选用高压油密封,对应面进行运动,在进行氮化处理曾经,需求将形状砂轮加以研磨,最终进行工件表面抛光处理。

抛光工艺常见方法

2018-12-25 10:08:21

抛光工艺主要是用来降低工件的表面粗糙程度,对金属工件进行选择抛光工艺方法时,根据不同需求可以选不同的方法,铝博士网为大家分享抛光工艺常见的几种方法。  1、机械抛光  机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。  2、化学抛光  化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。  3、电解抛光  电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步:  (1)、宏观整平溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。  (2)、微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。  4、超声波抛光  将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程,利于表面光亮化。  5、流体抛光  流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动,使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。  6、磁研磨抛光  磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。  在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同,严格来说,模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度,而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求,所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

氧化铝抛光粉

2017-06-06 17:50:12

氧化铝抛光粉具有硬度高、磨削力強、适用范围广等优点。模氏硬度可达1800-2000kg/mm2。顆粒圆滑,不易产生划痕,粒度分布范围窄,研磨后材料表面好。    抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。    为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。    对ZF或F系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。    抛光粉的真实硬度与材料有关,如氧化铈的硬度就是莫氏硬度7左右,各种氧化铈都差不多。但不同的氧化铈体给人感觉硬度不同,是因为氧化铈抛光粉通常为团聚体,附图为一个抛光粉团聚体的电镜照片。由于烧成温度不同,团聚体的强度也不一样,因此使用时会有硬度不一样的感觉。当然,有的抛光粉中加入氧化铝等较硬的材料,表现出来的磨削率和耐磨性都会提高。    抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉时,浆料浓度因适当调低。    抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。依我之间,最好使用不加抛光粉的抛光模。     了解更多有关氧化铝抛光粉的信息,请关注上海 有色 网。 

铝材碱性抛光剂介绍

2019-03-12 10:12:51

铝材酸性抛光进程中有很多的黄烟逸出,污染环境,因而对环境无污染化学抛光工艺碱性抛光应运而生。  碱性抛光有其共同长处:抛光液成本低,对槽体设备的腐蚀小,设备造价低,特别是废水处理简略。与酸性抛光比较:铝型材在碱性溶液中腐蚀速度极大,致使抛光时刻不能过长(往往只要几十秒),不然发作麻点或严峻失重,不适合大型铝型材的工业抛光出产;其次,碱性溶液抛光后表面的亮光度不大,抛光质量亦低于酸性抛光后的质量,因而其使用受到限制。所以,下降铝的腐蚀速度,进步抛光亮光度是碱性化学抛光的要害。  2.1铝合金碱性抛光液组成:  1)主盐  一般选用作为碱性抛光液的腐蚀剂,由于NaOH的质量浓度为300 g/L比较适合,若过小则达不到所要求的抛光作用,若过大则容易发作过腐蚀,构成失重严峻,铝片部分发作麻点。而当质量浓度控制在300 g/L时抛光作用最佳,抛光时刻满足长。因而,挑选NaOH的质量浓度为300 g/L。  2)缓蚀剂  选用单一或复合缓蚀剂来下降铝合金在碱性化学抛光液中的腐蚀速度,并经过增加表面活性剂在抛光液表面构成泡沫来按捺碱雾的逸出.这种由缓蚀剂、表面活性剂组成的复合增加剂还具有潮湿、整平长脸的作用。  3)无机缓蚀剂  以硅酸钠(30g/L)为缓蚀剂的抛光液对铝片抛光的光泽度跟着时刻延伸而削弱,当时刻超越40 s时,腐蚀严峻;其次,温度升高,硅酸钠的抛光作用变得较差,时刻延伸,作用更差,发作较多的麻点。  以SnCl2(20g/L)和硅酸钠(10g/L)为复合缓蚀剂的抛光液对铝片抛光光泽度较小。当温度为70~90℃,抛光时刻超越40 s时,发作严峻的点腐蚀,在表面构成很多的小凹斑。温度越高发作凹斑的速度越快。其原因可能是试样表面的凹处没有钝化膜,即没有稠性膜构成,铝很快溶解,因而发作了很多的麻点。  以钼酸铵(20 g/L)和硅酸钠(10 g/L)为缓蚀剂的抛光液在温度70~80℃时对铝片抛光的光泽度,当抛光时刻为20~50 s时较大,尔后腐蚀加剧;在温度为80~90℃规模抛光作用比在70~80℃的要好,阐明温度升高,有利于铝材的化学抛光。从表3可知,该抛光液抛光的铝材在70~80℃时失重较小;而在80~90℃时失严重。因而,用该抛光液抛光铝材时,宜选用工作温度为80~90℃,时刻为20~50 s。  4)有机缓蚀剂  在60~70℃时,抛光作用很好,且抛光作用安稳,能到达较长的抛光时刻80~100 s。这阐明温度下降,抛光速度(即铝的溶解速度)减慢;别的低温条件下铝合金的表面在抛光时,构成了一薄层稠性的粘膜或钝化膜,维护凹处,防止溶解过快,而表面微观凸处的溶解速度明显大于凹处的溶解速度,下降了表面的粗糙度,使铝合金表面趋于平坦而亮光。因而,以为缓蚀剂的抛光液对铝材进行抛光时温度应控制在80℃以下。  5)混合缓蚀剂  以六次甲基四胺(20g/L)和硅酸钠(10g/L)为缓蚀剂的抛光液对铝片抛光的光泽度较大,但抛光时刻不能过长,不然发作过腐蚀;六次甲基四胺缓蚀剂抛光的最佳温度规模是80~90℃,在该温度下最适合的抛光时刻是20~50s。研讨发现,以六次甲基四胺为缓蚀剂的抛光液对铝合金的抛光的失重,在70~80℃及80~90℃时,其失重率都很大,致使铝很多损耗。  以(20 g/L)和硅酸钠(10 g/L)为缓蚀剂的抛光液对铝片抛光作用较好。在70~80℃时的抛光作用比80~90℃的要好,在10~60 s内能得到较大的抛光光泽度;而在80~90℃内抛光作用不太好,随时刻延伸作用更差。构成这种反差的原因可能是,低温时铝合金的表面在抛光时,、硅酸钠、表面活性剂在试样表面构成了一薄层稠性的粘膜,以维护凹处,防止溶解过快;而在温度升高时,薄层稠性的粘膜溶解,所以,在80~90℃时抛光作用遍及欠好。

氧化铝抛光粉

2017-06-06 17:50:13

氧化铝抛光粉是众多抛光粉中最具代表性的抛光粉之一,由于氧化铝抛光粉的主要原材料是氧化铝,所以氧化铝抛光粉也成为了氧化铝的一个重要工业应用之一。氧化铝,又称三氧化二铝,分子量102,通常称为“铝氧”,是一种白色无定形粉状物,俗称矾土。氧化铝抛光粉中的氧化铝概要:氧化铝,刚玉型晶体接近于原子晶体,其它晶型的基本上是离子晶体,熔点为2050℃,沸点为3000℃,真密度为3.6g/cm。它的流动性好,难溶于水,能溶解在熔融的冰晶石中。它是铝电解生产中的主要原料。有四种同素异构体β-氧化铝 δ- 氧化铝 γ-氧化铝 α-氧化铝 ,主要有α型和γ型两种变体,工业上可从铝土矿中提取。名称 氧化铝;刚玉;白玉;红宝石;蓝宝石;刚玉粉;corundum 化学式Al?O? 外观 白色晶状粉末或固体。氧化铝抛光粉的安全性:食入 低危险 ;吸入 可能造成刺激或肺部伤害 ;皮肤 低危险 ;眼睛 低危险 ;在没有特别注明的情况下,使用SI单位和标准气温和气压。氧化铝是铝和氧的化合物,分子式为 Al?O? 。在矿业、制陶业和材料科学上又被称为矾土。除了做氧化铝抛光粉之外,氧化铝还有其他广泛的用途1. 红宝石、蓝宝石的主成份皆为氧化铝,因为其它杂质而呈现不同的色泽。红宝石含有氧化铁和氧化钛而呈红色,蓝宝石则含有氧化铬而呈蓝色。2. 在铝矿的主成份铁铝氧石中,氧化铝的含量最高。工业上,铁铝氧石经由Bayer process纯化为氧化铝,再由Hall-Heroult process转变为铝 金属 。3. 氧化铝是 金属 铝在空气中不易被腐蚀的原因。纯净的 金属 铝极易与空气中的氧气反应,生成一层致密的氧化铝薄膜覆盖在暴露于空气中铝表面。这层氧化铝薄膜能防止铝被继续氧化。这层氧化物薄膜的厚度和性质都能通过一种称为阳极处理(阳极防腐)的处理过程得到加强。4. 铝为电和热的良导体。铝的晶体形态金刚砂因为硬度高,适合用作研磨材料及切割工具。5. 氧化铝粉末常用作色层分析的媒介物。6. 2004年8月,在美国3M公司任职的科学家开发出以铝及稀土元素化合成的合金制造出称为transparent alumina的强化玻璃。氧化铝抛光粉的应急处理:隔离泄漏污染区,限制出入。建议应急处理人员戴防尘面具(全面罩),穿防毒服。避免扬尘,小心扫起,置于袋中转移至安全场所。若大量泄漏,用塑料布、帆布覆盖。收集回收或运至废物处理场所处置。

铝件抛光原理如何理解

2019-01-11 15:44:03

以铝质制件为例,铝件在空气中会迅速形成氧化膜。抛光时磨料(抛光膏)会先把凸出部位的氧化膜抛掉,而凹人部位则未抛到,则基体露出后会很快氧化,然后再被抛去,依次反复进行,直至抛成光亮为止。    抛光实际上并不是切削铝本身,而只是不断抛去氧化膜的过程,但由于反复的研抛,较后铝质材料本身的抛损速度还是很快的。    也有研究者认为,抛光是金属从凸出处移到凹人处的结果,从而形成无定形层。也有人从电子显微镜上观察到机械抛光表面的外层被粉碎成不规则的、很细的结晶状态。究竟哪一种说法更正确,有待进一步去探讨。

铝件抛光原理如何理解?

2019-01-15 09:49:23

以铝质制件为例,铝件在空气中会迅速形成氧化膜。抛光时磨料(抛光膏)会先把凸出部位的氧化膜抛掉,而凹人部位则未抛到,则基体露出后会很快氧化,然后再被抛去,依次反复进行,直至抛成光亮为止。     抛光实际上并不是切削铝本身,而只是不断抛去氧化膜的过程,但由于反复的研抛,较后铝质材料本身的抛损速度还是很快的。     也有研究者认为,抛光是金属从凸出处移到凹人处的结果,从而形成无定形层。也有人从电子显微镜上观察到机械抛光表面的外层被粉碎成不规则的、很细的结晶状态。究竟哪一种说法更正确,有待进一步去探讨。

铝镜面抛光剂的工艺

2018-12-29 16:57:13

铝镜面抛光机,在企业生产使用的过程中,能够赋予所抛光金属器件表面的高光亮度效果,并且还能呈现出高镜面反射的性能,因为它本身还具备众多的优势,目前被广泛地应用于室内装饰、工业及科技领域的铝材抛光工序上面。现在我们就一起来看看,铝镜面抛光剂的工艺处理流程。   国内生产镜面铝型材的铝加工企业,对这些产品进行抛光的时候,一般都会做两道工序。一、先将铝型材经过机械抛光;二、再采用三酸化学抛光、电化学抛光二种方法对铝型材进行抛光。但是在实际操作中,大家发现传统的三酸化学抛光剂内含有硝酸,这种有毒物质在生产过程中,会产生大量的黄色NO2气体;不仅严重污染生产车间,还会对工人的健康造成极大的伤害。虽然后来对传统的三酸化学抛光机进行了改进,但是在使用这种产品的时候,也会产生大量的白色烟雾,污染效果也是非常巨大的。近些年推出的二酸化学抛光剂,虽然抛光效果不如三酸抛光或电化学抛光,但是它不含硝酸更不会产生有毒的气体。   在使用传统的电化学抛光剂时,还需要加入铬离子对环境污染十分严重;同时它在抛光时要求电流密度要达到20~30A/dm2,比较浪费能源。现在,大家采用铝镜面抛光剂的操作工艺,无烟无毒还能节约能源,是一款非常实用的工业抛光剂。

酸性电化学抛光溶液中铝离子浓度对抛光质量的影响

2019-01-08 17:01:40

电化学抛光溶液中,铝离子浓度的控制是保证抛光质量的重要方面,因为铝离子浓度与抛光液的黏度是一个恒定值的关系。溶液中铝离子尚未积累之前,溶液黏度低,对抛光质量不利,主要反映在制件表面的某些部位产生磨点、制件表面的光亮度也较差。为克服这一缺点,新配制的抛光溶液中可添加适量的旧溶液(旧溶液中都有过量的铝离子),以弥补其黏度过低而出现的上述现象。 随着电化学抛光不断进行,溶液中铝离子浓度不断上升,黏度也会随之增加,此时电流密度要相应提高,溶液中还需加强搅拌,只有这样才能满足高光亮度的质量要求。 在高黏度的溶液中进行电化学抛光时,由于配送的电流相对要高些,此时制件的外表面会产生大量气体,在黏液膜的覆盖下难以逸出,从而同样会出现点状腐蚀。 为解决这一问题,临时性的措施是提高溶液的温度,也可添加少量水来降低黏度,但提高溶液温度不便操作,添加水又会因此而降低酸度,也难以获得理想的光亮度。 为维护溶液稳定,要控制槽液的黏度在一个稳定的数值之内,使铝离子浓度维持在30g/L左右,超过这个数值时应及时更新部分溶液。

电镀前处理之化学抛光

2019-03-11 11:09:41

在电镀出产线上,工件在电镀前进行的一系列前处理都是为了得到更好的镀层,那么化学抛光在整个前处理中也是很重要的,下面咱们就来了解一下电镀前处理的化学抛光。     化学抛光是指在适宜的溶液中,不运用外接电源,依托化学浸蚀作用对工件进行的抛光。在化学抛光进程中,因为金属微观表面构成了不均匀的钝化膜,或因为构成了相似电解抛光进程中所构成的稠质黏膜,然后使表面微观凸出部分的溶解速度明显大于微观凹入部分,因此下降了零件的表面显微粗糙程度,使零件表面比较亮光和平坦。化学抛光广泛应用于不锈钢、铜及铝合金等的抛光,还用于对一些零件做装修加工。化学抛光可作为电镀前的处理工序,也可在抛光后辅以必要的防护办法而直接运用。     与电抛光比较,化学抛光不需求电源和导电挂具,可对形状杂乱的各种尺度的零件进行抛光,出产效率高。其缺陷是溶液运用寿命短,浓度的调整和再生比较困难,一般还会分出一些有害气体。化学抛光的抛光质量也比电抛光差,这首要是因为在化学抛光中,因为材料的质量不均匀,会引起部分电势凹凸纷歧,发作部分阴阳极区,构成部分短路的微电池,使阳极发作部分溶解。而在电抛光中,因为外加电势的作用能够彻底消除这种部分的阴极区,然后进行全面的电解,因此作用更好。     (1)抛光液的组成及其他影响要素。     ①抛光液组成:为了确保化学抛光的作用,有必要使金属表面溶解,并在表面构成前述的液体膜或固体膜。化学抛光液的根本组成一般包含腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。其间,腐蚀剂是首要成分,首要使工件在溶液中溶解;氧化剂和添加剂可按捺腐蚀进程,使反响朝有利于抛光的方向进行;水对溶液浓度起调节作用,便于反响产品的分散。     用作金属溶解的成分一般是酸,其间用得较多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。、HF等强酸,而对铝那样的金属,也可用NaOH,在这些酸中因为高浓度的磷酸和硫酸都具有较高的黏度,可构成液体膜分散层,故这种成分具有两种功用。这也是在化学抛光液的组成中首要选用磷酸和硫酸的原因。为了进步黏度,使分散层简单构成,也可加进明胶或甘油等能进步黏度的添加剂。为了促进固体膜的构成,则需参加以硝酸或铬酸为主的强氧化剂。     ②抛光时刻:化学抛光存在一个最佳抛光时刻规模。若时刻过短,只能取得没有光泽的梨皮状表面;若时刻过长,不只溶液丢失增大,并且加工表面会呈现污点或斑驳。而这个时刻规模受材料、抛光液组成及抛光温度等要素的影响,一般难以预测,只能经过试验测定。化学抛光中往往一起发作,这是在抛光具有氢脆敏感性材料时有必要留意的问题。别的抛光液温度高达100~     200CC时,还会发作退火作用。为了把氢脆和退火作用的影响降到最低,就有必要在最适温度规模内挑选尽可能短的抛光时刻。     ③抛光温度:化学抛光时,溶解速度跟着抛光液温度的进步而明显添加。此外,强氧化性的酸在高温时的氧化作用会变得很明显。在化学抛光中,因为这些酸的溶解作用和氧化作用会一起发作,故大都情况下都是把抛光液加热到较高温度来进行抛光的。     需求供给温度来进行抛光的金属有钢铁、镍、铅等,若温度低于某必定值,就会失掉润滑的腐蚀表面,故存在一个构成光泽面的临界点,在临界点以上的温度规模内抛光作用较好。而这个温度规模又因液体的组成不同而异,假如高于这个温度规模,会构成点蚀、部分污点或斑驳,使整个抛光作用下降。此外,温度越高,材料的溶解丢失也越大。     (2)铜及其合金的化学抛光。铜和单相铜合金可在磷酸一硝酸一醋酸或硫酸一硝酸一铬酸型溶液中进行化学抛光     在运用进程中需常常弥补硝酸,抛光时假如分出较少,零件表面呈暗黄色时,可按装备量的1/3弥补硝酸。为避免过量的水带入槽内,零件应枯燥后再抛光。     (3)铝及铝合金的化学抛光。为取得亮光的表面,有必要严格控制抛光液硝酸的含量。硝酸含量过低,抛光速度慢且抛光后表面光泽性差;硝酸含量过高,简单发作鳞状腐蚀。磷酸浓度低时,不能取得亮光的表面,为了避免溶液被稀释,抛光前的零件表面应枯燥。醋酸和硫酸能够按捺点状腐蚀,使抛光表面均匀、详尽。硫酸铵和尿素能够削减氧化氮的分出,并有助于改进抛光质量。少数的铜离子能够避免过腐蚀,然后进步抛光表面的均匀性,但含量过高又会下降抛光表面的反光才能。铬酐能够进步铝锌铜合金的抛光质量,含锌、铜丝高的强度铝合金在不含铬酐的抛光液中,难以取得亮光的表面。     经化学抛光的零件,一般应在室温下于400—500g/L的硝酸中或在100~200g/L的铬酐溶液中,浸渍数秒至数十秒,以除掉表面的触摸铜。

常用于铝合金压铸的抛光方法

2018-12-27 11:13:39

1、机械抛光  机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在铝合金压铸件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。  2、化学抛光  化学抛光是让铝合金压铸件在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的铝合金压铸件,可以同时抛光很多铝合金压铸件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。  3、电解抛光  电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步:  (1)宏观整平溶解产物向电解液中扩散,铝合金压铸件表面几何粗糙下降,Ra>1μm。  (2)微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。  4、超声波抛光  将铝合金压铸件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在铝合金压铸件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起铝合金压铸件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使铝合金压铸件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程,利于表面光亮化。  5、流体抛光  流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷铝合金压铸件表面达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动,使携带磨粒的液体介质高速往复流过铝合金压铸件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。  6、磁研磨抛光  磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对铝合金压铸件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。

铝合金型材无烟镜面抛光技术

2018-12-25 10:08:21

一、合金铝板等铝合金型材的技术特点与上风  (1)合金铝板等铝合金型材技术特点:无烟镜面抛光具有无黄烟、无流痕、低本钱、低消耗、低设备投入、高亮度、高不乱性、高功效、高成品率等特点,突破了传统抛光技术的瓶颈和缺陷,成功实现了11米长材化学抛光以及自动线化学抛光的规模化出产。无烟镜面抛光技术是普通三酸和电解抛光的进级换代技术,是合金铝板等铝合金型材化学抛光技术的发展方向。  (2)合金铝板等铝合金型材技术上风如下:  ①无黄烟:无烟镜面抛光从根本解决了三酸抛光产生大量黄烟的挫折。可节约大量的环保处理本钱。为化学抛光的广泛运用扫清了主要障碍。  ②无流痕:无烟抛光技术彻底解决了抛光流痕的挫折、并实现了11米长抛光材的全自动线规模出产,使抛光像碱蚀一样易于操纵。  ③高亮度:无烟抛光因为采用新的抛光成分,比三酸抛光、电解抛光的亮度进步20%~30%,是目前亮度最高的抛光技术。  ④低消耗:无烟镜面抛光药剂的消耗可比电解抛光的消耗(500-700kg/t材)降低60%-70%。  ⑤高成品率:无烟镜面抛光过程中几乎不产生缺陷,产品成品率极高。  ⑥出产效率高:无烟抛光挂料而积大,每次可抛光多排;抛光无废品,出产效率至少是三酸抛光的2倍以上,是电解抛光的6-9倍。  ⑦槽液不乱:无烟镜面抛光槽几乎不调槽,可长期不乱工作。为化学抛光铝材的大规模产业化、自动化出产铺平了道路。  ⑧亮度不乱:不同批次出产抛光材,因为不调槽,所出产的抛光材亮度不乱。  二、工艺漓程与操纵要点分析  (1)槽位设置说明:  ①无烟镜面抛光槽前是完全封锁的抽风墙,杜绝外界天然风降低抽风效率,利于阴雨天、浓雾天的全天候出产。  ②无烟镜面抛光槽的宽度为1.6m以上,加强槽液吸收烟雾的缓冲能力,利于大规模批量出产。  (2)槽液功能说明:  ①除蜡除垢槽:本槽中盛一种新型弱碱性除蜡除垢剂,能去机械抛光蜡及残存的重油垢,不侵蚀铝合金。操纵简朴。  ②无烟镜面抛光槽:本槽含有多种组分,富古强氧化剂,能对铝合金进行镜面抛光。  与其他抛光技术比拟,本槽具有如下特点:  ①绝无黄烟,亮度不乱:本槽添加有足够量的烟雾按捺剂,黄烟的分解被彻底按捺;因为强氧化剂分解较慢,浓度比三酸槽不乱,因此不同批次铝合金的亮度差别比三酸抛光要小得多。  ②亮度增加:化学抛光的亮度,陈了与磷酸浓度、硝酸浓度,温度有关外,还与抛光液的含水量有关。含水量越高,亮度越低;三酸抛光液中磷酸含量高达80%(磷酸的含水量为15%),相应抛光液水含量小低于12%;如斯高的水含量必定降低抛光材的亮度。无烟镜面抛光液在制作过程中,经由长时间的高温浓缩,水含量水足5%,因此镜面抛光材的亮度显著进步。  ③可长时间滴流:考虑到化学抛光反应过于剧烈,铝合金离开槽液后,滴流时间不能超过20s,大量抛光液被带进水洗槽,造成抛光材本钱过于昂贵。无烟镜面抛光液中添加有足够量的缓蚀剂,保护铝合金离开槽液后,可在空中按任意时间滴流而不花材,也没流痕。由此可节约抛光液70%以上。  ④自动除灰:铝合金不纯或抛光液老化时,铝材经三酸抛光后,表面往往有一层黑灰,一般方法很难除去,严峻影响抛光材质量。无烟镜面抛光槽中,添加有除灰成分,可自动清除抛光灰。  ⑤成品率高:因为镜面抛光槽解决了色差、流痕、花材、抛光灰等题目,使得成品率大幅进步。从而降低了本钱,进步了出产。  (3)保光氧化槽。设置本槽有两大目的:  ①预制化学氧化膜:保光氧化槽,能天生一定厚度的氧化膜,又能完全留存原有亮度;钢合金从镜面抛光到阳极氧化之前,可先过保光氧化槽,预制一定厚度的化学氧化膜,避免氧化之前在水洗槽中产生点蚀或花材,进步成品率,同时在进行阳极氧化时,减少氧化失光。  ②精除灰:抛光灰的来源有两种,一是铝合金中有夹杂,二是抛光液老化。抛光灰用一般方法很难清除,能严峻影响抛光材的外观质量。尽管无烟镜面抛光槽中已添加有除灰剂,能清除绝大部门抛光灰,但仍可能有少量残留抛光灰。保光氧化槽能彻底清理抛光灰,从而保证抛光材质量。

铝和铝合金化学抛光的方法

2019-03-14 10:38:21

铝和铝合金的化学抛光是以70%(质量百分数)的磷酸为根底的溶液。常用的是磷酸、硝酸、硫酸混合液,当合金成分改变时,硫酸含量(质量百分数)在9%。l5%之间改变,硝酸含量(质量百分比)在3%~9%之间改变。由于工作温度在105℃左右,很多发生氮氧化物污染环境。因而,在磷酸和硫酸混合液根底上用S类酸铜光亮剂作添加剂,发生了无黄烟化学抛光工艺。但这种无黄烟化学抛光只适用于纯铝或铝镁合金,对其他铝合金作用较差。后来又有只加2%硝酸的配方呈现,也用相似的添加剂,没得到扩展适用范围。可是,至今磷酸、硝酸、硫酸混合液由于适应性强,仍是干流配方。    含铜、锌较高的铝合金,化学抛光时加2~5g/L铬酐有协助。手册上有记叙,含硅高的铝合金,化学抛光时用60~65mL/L硝酸、15~20mL/L、甘油1~2mL/L的混合液,在室温下浸2s。不过这种办法更像是浸蚀。     还有一种含醋酸的配方,适用于纯铝和2A12(LYl2):磷酸850mL/L冰乙酸l00mL/L硝酸50mL/L温度80~100℃时刻2~5min     醋酸关于避免点状腐蚀有更好的作用。

黄铜化学抛光剂使用方法

2019-05-29 18:15:43

黄铜化学抛光剂使用说明?黄铜化学抛光剂?黄铜化学抛光剂使用说明有哪些?黄铜化学抛光剂使用说明怎样表明?首要咱们先来看一下什么黄铜化学抛光剂吧,铜材黄工通知你,黄铜抛光剂作用安稳而持久。操作时基本无黄烟,属环保产品。铜材抛光后色泽丰满,表面平坦,能够到达镜面作用。好了,接下来咱们接着来说下“黄铜化学抛光剂使用说明”吧。黄铜化学抛光剂铜件   黄铜化学抛光剂特色?  1、超卓复原作用,短时刻内能让高氧化铜面目一新  2、运用寿命长,经济效益佳  3、能有用维护铜面,抛光后产品不易氧化腐蚀  4、不冒黄烟,不含强酸,不含强碱  5、抛光后铜制品不影响后续制作,如:电镀、分式化、喷漆等  黄铜化学抛光剂使用说明?  1、本剂原液运用,不能带水进入抛光液中。抛光前铜工件表面不能有油污.  2、抛光操作:将铜件悉数浸没在抛光液中,浸泡约2分钟-4分钟取出之后,立即用清水冲刷洁净铜件上抛光液。一次性不要投入太多工件,工件与工件之间要有必定间隔,工件之间不要堆叠,而且抛光时要不时轻盈翻动工件,意图均匀抛光。  3、每逢运用必定时刻后,如发现亮光度下降,则要补加长效添加剂,每公斤抛光剂补加10克~15克长效添加剂,搅均匀后再运用。  4、清洗洁净并风干后即可进行下一步工序操作,如钝化、焊接等。  黄铜化学抛光剂运用作用?  黄铜化学抛光与机械抛光、电化学抛光比较,它不需求通电和挂具。因而能够抛光形状杂乱制品,而且加工效率高。化学抛光得到亮光表面,提高了铜及铜合金装修作用和表面功能。黄铜抛光剂能快速有用去除黄铜表面氧化物、毛刺、污迹等,从而能确保抛光表面均一滑润光泽,并有必定抗氧化作用。本品不含等有害、有毒物质,操作时无烟雾呈现,无三废处理问题。操作便利,运用成本低。许多较难清洗作业上有显著作用。  黄铜化学抛光剂注意事项?  1、呈酸性,对皮肤有腐蚀性,操作时轻拿轻放,而且配戴胶手套。倾倒时应缓慢,防止飞溅到人身上。假如不小心与皮肤触摸则立即用清水冲刷洁净。  2、原液运用,运用过程中防止带水进入抛光液中。  3、运用前后都要密封好,不要曝晒,储藏于阴凉通风处。  以上关于黄铜化学抛光剂使用说明相关百科,期望对您有所协助!想要了解黄铜化学抛光剂更多百科,能够登录到咱们铜材产品页面进行相关挑选查询。 

铝和铝合金怎样进行化学抛光?

2019-03-11 11:09:41

铝和铝合金的化学抛光是以70%(质量百分数)的磷酸为根底的溶液。常用的是磷酸、硝酸、硫酸混合液,当合金成分改变时,硫酸含量(质量百分数)在9%。l5%之间改变,硝酸含量(质量百分比)在3%~9%之间改变。由于工作温度在105℃左右,很多发生氮氧化物污染环境。因而,在磷酸和硫酸混合液根底上用S类酸铜光亮剂作添加剂,发生了无黄烟化学抛光工艺。但这种无黄烟化学抛光只适用于纯铝或铝镁合金,对其他铝合金作用较差。后来又有只加2%硝酸的配方呈现,也用相似的添加剂,没得到扩展适用范围。可是,至今磷酸、硝酸、硫酸混合液由于适应性强,仍是干流配方。    含铜、锌较高的铝合金,化学抛光时加2~5g/L铬酐有协助。手册上有记叙,含硅高的铝合金,化学抛光时用60~65mL/L硝酸、15~20mL/L、甘油1~2mL/L的混合液,在室温下浸2s。不过这种办法更像是浸蚀。    还有一种含醋酸的配方,适用于纯铝和2A12(LYl2):  醋酸关于避免点状腐蚀有更好的作用。

铝合金与铝管的化学抛光方法

2019-03-01 09:02:05

铝和铝合金的化学抛光是以70%(质量百分数)的磷酸为根底的溶液。常用的是磷酸、硝酸、硫酸混合液,当合金成分改变时,硫酸含量(质量百分数)在9%。l5%之间改变,硝酸含量(质量百分比)在3%~9%之间改变。由于工作温度在105℃左右,很多发生氮氧化物污染环境。因而,在磷酸和硫酸混合液根底上用S类酸铜光亮剂作添加剂,发生了无黄烟化学抛光工艺。但这种无黄烟化学抛光只适用于纯铝或铝镁合金,对其他铝合金作用较差。后来又有只加2%硝酸的配方呈现,也用相似的添加剂,没得到扩展适用范围。可是,至今磷酸、硝酸、硫酸混合液由于适应性强,仍是干流配方。    含铜、锌较高的铝合金,化学抛光时加2~5g/L铬酐有协助。手册上有记叙,含硅高的铝合金,化学抛光时用60~65mL/L硝酸、15~20mL/L、甘油1~2mL/L的混合液,在室温下浸2s。不过这种办法更像是浸蚀。7075铝排    还有一种含醋酸的配方,适用于纯铝和2A12(LYl2):    磷酸850ml/L    冰乙酸100ml/L    硝酸50ml/L    温度80-100℃    时刻2-5min    醋酸关于避免点状腐蚀有更好的作用。

详解无铬电解抛光的原理及选择应用

2019-03-04 11:11:26

与化学抛光比较,电解抛光则更胜一筹,电解抛光具有以下的长处: 1、设备简略,工艺参数易于调控,可替代机械抛光,或在某些特殊要求情况下持续机械抛光后再进行化学抛光或电解抛光,其表面亮光度更高,且相对于机械抛光更易选用自动化规划出产; 2、对型材结构和尺度规模要求较宽,可处理用作精密件的表面要求较高的工业材,外尺度较大或极小以及形状杂乱机械抛光无法处理的型材; 3、通过电解抛光后的铝型材表面更明晰、洁净,无残留的机械抛光粉尘,具有愈加好的抗腐蚀性; 4、电解抛光的表面镜面反射率更高,金属感会更好。 电解抛光又称为电化学抛光,是以铝材作为阳极浸入到制造好的电解质溶液中,以耐腐蚀并且细小凸出部分并且功能杰出的材料(如不锈钢)作为阴极,依据电解尖端放电原理,通电后的铝型材表面细小杰出部位优先溶解,与此一起溶解产品与表面的电解液构成高电阻的粘稠性液膜层,细小凸出部位的液膜层较薄,其电阻较小,然后坚持优先溶解,一起凹洼部位的液膜层较厚,电阻增大,其溶解速度相对缓慢,通过短时间电解处理后,杰出部位被溶解整平直至凹洼部位的方位,使铝材表面粗糙度下降到达滑润亮光的进程。 无铬电解抛光的挑选及运用 1、典型的电解抛光工艺 电解抛光能使铝材表面的亮光作用呈现出高镜面反射功能,适用于工业及科技领域有特殊亮光表面质量要求的铝材。典型的电解抛光工艺包含酸性电解抛光和碱性电解抛光,主要有如下几类: ①碳酸钠-磷酸三钠碱性电解抛光工艺(Brytal工艺),这一工艺特别合适于抛光高纯铝,常用于已作机械抛光处理仍需进一步进步亮度的铝制品,长处是运用的电流密度低,抛光液对铝基材溶解速度小,缺点是溶液耗费较快,对杂质比较灵敏。 ②磷酸-铬酸-硫酸酸性电解抛光法(Battle法),硫酸能有用下降抛光操作电流密度、电压,并在必定规模内容许在较高温度下进行电解抛光,一起还能按捺点蚀的发作,铬酸进步铝材抛光表面镜面反射率。 ③电解抛光工艺,以为主要成分电解液,这一工艺比较合适高纯铝材,其反射率可到达85%。 ④硫酸-铬酸电解抛光工艺(Aluflex法),其槽液操控相对比较简略,在此抛光液中铝的溶解速度在初期的2min适当快,约为25μm左右。且当槽液中铝离子含量太高时,会呈现亮光度缺乏或表面有附着物等缺点。 2、无铬电解抛光工艺 因为传统的铝及铝合金电解抛光溶液中含有毒性很大的铬酸,严峻污染环境,废水难以处理,不利于清洁出产的正常施行。为此,选用一种对环境无损害的新式抛光工艺来替代原有的典型电解抛光工艺势在必行。 总结长辈们在无铬电解抛光上所做的工艺研讨,此类抛光液大都以磷酸为主,用醇类物质替代作为缓蚀剂的铬酸,使用醇分子间可构成氢键然后发生的缔合作用这一特殊性质来完成平坦作用。依据电解抛光理论,有缔合特性的醇类电解抛光液,在被抛光铝材表面构成黏膜层,使其洼陷方位处于安稳的钝化状况,而凸突处则以更快的速度溶解,取得滑润亮光的表面。添加醇类分子的羟基数目是有利于抛光的,选用含有更多羟基的可溶性多元醇聚合物作用愈加显着。 无铬电解抛光工艺具有无黄烟、无流痕、安稳性高、高亮度、高效率的巨大优势。

铝及铝合金化学抛光配方及工艺条件

2018-12-29 11:29:09

铝及铝合金化学抛光配方及工艺条件,一般多采用磷酸基溶液进行化学抛光,非磷酸的方法也有。    铝及其合金化学抛光配方及工艺条件  注:配方1可抛光纯铝和含铜量较低的铝合金;     配方2适于纯铝和铝镁、镁铜合金;     配方3适于纯铝;     配方4适于工业纯铝及铝含镁合金;     配方5适于含铜、锌较高强度铝合金;     经配方1或配方4的铝件和铝合金件化学抛光后,一般应在400-500g/L硝酸或在100-200g/L,铬酐溶液中,室温下浸数秒至十秒钟,以除表面接触铜。