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硅片的抛光

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硅片的抛光百科

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多晶硅片

2017-06-06 17:50:04

多晶硅片是制作太阳能电池的核心材料,产品被广泛应用于光伏发电、通讯、交通以及偏远地区居民的生产、生活供电等领域,还可以应用于太阳能灯、草坪灯和屋顶太阳能光伏发电等新的领域。  运用垂直梯度凝固技术和多线网切割技术加工而成,在晶体生长速率和退火,能有效保证晶体的晶向和结晶速度,从而确保多晶硅片的稳定性和高转化率。  一种用于生产太阳能电池的多晶硅片的制造方法,是将熔融的硅熔体注入到一个狭缝,硅熔体在狭缝的耐高温面上结晶,在狭缝空间的约束下,结晶成指定厚度的多晶硅片。它是一种使熔融状态的硅直接结晶成薄片硅的方法,因此可以提高硅材料的利用率,可以制造出200微米以下厚度的硅片,从而降低太阳能电池的成本。

铝的化学抛光和电解抛光

2019-03-01 10:04:59

铝材抛光是开发铝材多品种、多色系、亮光淡色和谐多彩铝的基础。是改动铝材色彩单一现状,前进铝材表面装饰效果的关键技能,亦是铝材更新换代与增值的首要途径。跟着商场对铝材质量、品种的需求越来越高,抛光铝材的发展前景越来越广大。化学抛光具有技能简略、抛光速度快、铝耗低、可用于凌乱工件、不用电力、出资少等特征,因而国外已运用了100多年。三酸抛光可得镜面亮光效果,但是在抛光进程中,发生有毒气体N0、N0x与酸雾,需妥善处理,一同槽液维护有必定的难度。二酸抛光的亮光度略低于三酸抛光,但抛光工件表面滑润细腻,亮光均匀的效果也很佳,仅次于三抛。由于抛光进程没有有毒气体发生,酸雾亦较轻,所以更具发展前景。各种抛光方法的比照见表5—5—16。   表5—5—l6各种抛光方法的比照表电解抛光化学抛光机械抛光由金属表面均匀溶解、呈镜面光泽 呈美丽之亮光 耐蚀性及亮光持续性杰出 适于软、硬两种金属 形状凌乱的物件也可抛光 铝合金较困难,纯铝抛光效果好 面积大者需用大设备设备 可用于精密机件上 作业需科学管理 技能凌乱呈镜面光泽 呈美丽亮光 较好 适于软、硬两种金属 形状凌乱的物件也可抛光 铝合金较困难,纯铝效果好 面积大者需用大设备设备 可用于精密机件上 作业较简略 技能较简略由金属表面的切削磨擦、呈滑润镜面 较劣 较劣 难于在软合金施行 形状凌乱物件抛光困难 铝合金也能够 无此困难 不适于精密机件上 作业简略 技能简略  一、化学抛光原理   在化学抛光进程,金属以离子方法转到溶液中,这些离子集合在被抛光金属的表面上,引起其附近电解层的粘度增大,金属与粘度大的液层接触时,其溶解速度比在新溶液中小,由于这一粘液层的比重增大,所以在金属与电解液界面大将发生对流表象,效果金属表面上凸起的有些比逗留有粘液层的凹入有些简略不带粘液层,电解液以较大的速度向凸起有些涣散,因而凸起有些溶解得更快,而粘液层维护着凹入有些不再受电解液的效果,也即溶解速度很小,然后达到了平整金属表面的抛光目的。   二、化学抛光技能   化学抛光技能已经有近百年的前史,配方许多,现在出产上运用较多的是:   ①硫酸+磷酸+硝酸体系:三酸抛光   ②硫酸+磷酸体系:两酸抛光   硫酸与磷酸的份额大致为l:4,硝酸含量为5%支配。一同,硝酸铜、硫酸铜、尿素、硫酸铵、大分子有机物如聚乙二醇等也作为添加剂参与,以抑制黄烟和前进抛光的亮度,但总体上来讲,三酸亮光较好但黄烟无法根柢消除,温度在高于85℃时搬运时刻要短,不然易发生“流痕”,而搬运时刻短,带出的槽液就多,致使本钱居高不下。两酸抛光效果决定于抛光添加剂的合理运用。   1)化学抛光槽液中各组分的效果   (1)磷酸:化学抛光液中磷酸含量较高,磷酸是中强酸,粘度较高,从前面所述的化学抛光机理可知,为了使微观凸处溶解削平,凹处溶解尽可能减少,型材表面上有必要要有一层粘膜层,磷酸与铝效果生成的磷酸铝便是粘度很大的粘膜层。   A1+7H3P04+5HN03=7A1P04+2N2+N02+13H20   磷酸铝从表面向溶液内有些散速度缓慢,在金属表面的微凹处,粘膜层较厚,溶解慢,在微凸处,溶解快,使凸处被溶解削平,所以酸性化学抛光液中有必要含较高磷酸,当磷酸缺乏时,抛光效果就变差。   (2)硫酸:它的效果是加快抛光速度,前进整平效果,太低(﹙8%)抛光速度慢,太高隆低抛光质量,硫酸在化学抛光进程中所起的化学反应式如下:   2A1+3H2S04=Al2(S04)3+3H2↑   A1203+3H2S04=Al2(S04)3+3H20   (3)硝酸:氧化性强酸,使用它可使铝表面生成氧化铝膜,一同又及时溶解氧化铝膜而生成,因而它对抛光质量起重要效果,太低(〈2%)抛光功用下降,太高(〉12%)易发生点腐蚀。3%~8%较好,硝酸在抛光时的化学反应如下:   2A1+6HN03=A1203+6N02↑+3H20   4A1+4HN03=2A203+4NO↑+2H20   A1203+6HN03=2Al(4N03)3+3H20   (4)重金属盐的效果:在酸性化学抛光液中参与Cu2+等重金属能前整性和反射率。首要铜离子在天然氧化的缺陷部位与金属铝基体发生置换反应而分出,然后在整个铝表面构成铜原子层。   3Cu2++2A1→2A13++3Cu↓   上述反应的发生使铝表面有层薄铜,铝溶解困难,氧化膜只能在有些表面重复溶解和再生,一同铜和基体发生电位差,又可推动凸部的溶解削平,然后前进了抛光效果。   (5)无烟化学抛光添加剂:代替硝酸消除黄烟,调度粘度,前进抛光质量,下降腐蚀速度,延伸搬运时刻,下降出产本钱。   各种化学抛光方法及技能条件见表5—5—17。

电解抛光与化学抛光的区别

2019-03-11 13:46:31

电解抛光,是金属零件在特定条件下的阳极腐蚀。这一进程能改进金属表面的微观几许形状,下降金属表面的显微粗糙程度,然后到达使零件表面亮光的意图。  电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工,某些东西的表面精加工,或用于制取高度反光的表面以及用来制作金相试片等。  在不少场合下,电解抛光能够用来替代深重的机械抛光,尤其是形状比较杂乱,用机械办法难以加工的零件。可是,电解抛光不能去除或粉饰深划痕、深麻点等表面缺陷,也不能除掉金属中的非金属夹杂物。多相合金中,当有一相不易阳极溶解时,将会影响电解抛光的质量。  化学抛光,是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。在这一浸蚀进程中,金属表面被溶液浸蚀和整平,然后获得了比较亮光的表面。  化学抛光能够用于仪器、铝质反光镜的表面精饰,以及其它零件或镀层的装饰性加工。  同电解抛光比较,化学抛光的长处是:不需外加电源,能够处理形状更为杂乱的零件,出产功率高级,可是化学抛光的表面质量,一般略低于电解抛光,溶液的调整和再生也比较困难,往往抛光进程中会分出氧化氮等有害气体。  现在出产上选用的电抛光液主要有:  ①硫酸、磷酸、铬酐组成的抛光液;  ②硫酸和柠檬酸组成的抛光液;  ③硫酸、磷酸、及甘油或相似化合物组成的混合抛光液。  铝及铝合金的电解抛光在出产上应用得比较广泛。抛光后的零件假如随即进行短时间的氧化处理,不仅能得到平坦亮光的外观还能构成完好的氧化膜,进步耐蚀性,能够长期保持其表面光泽。  化学抛光是在特定的溶液中对零件进行浸蚀整平的进程。化学抛光设备简略,能够处理形状比较杂乱的零件。缺陷足化学抛光的质量不如电解抛光。溶液的调整和再生也比较困难,在应用上受到限制。尤其是化学抛光操作进程中硝酸散发出很多黄棕色有害气体,对环境污染十分严峻。

电抛光液抛光质量的影响因素

2018-12-27 14:45:26

电抛光液抛光质量的影响因素:电抛光液抛光质量的影响因素主要有温度、时间、电流密度、阴极材料、搅拌条件等。  a.温度:温度对电抛光过程的影响很大。当电流密度一定时,随着电解液温度的升高,电抛光的速度增大。因为温度升高,溶液黏度降低,使对流作用加强,扩散速度加快,阳极附近溶液能迅速更新,从而有利于阳极溶解。温度低时,溶液导电性差,抛光缓慢;温度高时,溶液的扩散作用强,为了形成薄膜,同时也必须提高电流密度。但温度过高,阳极表面的电解液易发生过热,产生的气体和蒸气可能将电解液从电极表面排开,从而降低抛光效果,也很难用提高电流密度的方法来达到抛光的目的了。  b.时间:在电抛光开始的一段时间内,阳极表面的整平速度最大,以后就越来越小,甚至到某一时间后,再延长抛光时间,不仅不能使表面粗糙度降低,反而会使之增加。因此,抛光时间也应根据基体材料的性质、表面的原始状态、电抛光液的组成、电流密度和温度来决定。一般情况下,抛光时间随电流密度和温度的提高而缩短。为了使表面粗糙度降低,达到良好的抛光效果,应多采用反复多次抛光的办法,每次抛光的时间控制在许可的范围之内。  c.电流密度:电流密度根据材料的不同而不同。一般来说,电抛光的阳极电流密度应选择在阳极极化曲线的d点附近,这时极化较大,并有一定量的氧气析出,抛光速度快,能使表面达到最高的光洁度。提高电流密度,可得到光亮的表面,但是电流密度过高,则容易产生局部过热的烧焦和麻坑等现象;电流密度低于所需的极限时,金属表面易被腐蚀变得粗糙,不能达到抛光的效果。  d.阴极材料:电抛光的阴极一般都是铅板。采用不同的阴极材料时,所对应的电解液种类。从电流效率的观点来看,增大阴极面积是有利的,但是增大阴极面积会使六价铬还原成三价铬的速度加快,一般取面积比为阴极:阳极:(1-1.5):1即可。  e.极间距离:在一般的电解处理中,电流有易于在电极周围集中的倾向,这样在处理大平板状的材料时,周围部分要比中部易于光泽化。为了抑制这种电流分布的不均匀性,就得把阳极面积做得比阴极面积大,并且加大电极间的距离。而电极间距离增大后,又使电能的消耗增加,所以根据电解液的电阻率、温度和电流密度的不同,电极间距离大都在10一60cm之间选择。  f.搅拌条件:搅拌可以使电解液的温度更均匀,防止表面局部过热,使阳极表面附近的溶液容易更新,从而增加黏膜的溶解速度和抛光速度,所以适当的搅拌可以提高电抛光的质量。同时,搅拌还可以赶走滞留在金属表面的气泡,以消除麻点和条痕。但是,搅拌的速度不宜过大,否则会使黏膜的溶解速度过快而影响抛光效果。实际生产中常采用移动阳极的方法来搅拌溶液,移动速度为6—10次/min(相当于1~2m/min)。

多晶硅片功率

2017-06-06 17:50:13

我国是能源消耗大国,石油、煤炭等能源资源稀少,太阳能利用技术的研究有十分重要的意义。而多晶硅片是太阳能电池的主要材料的一种型号。当前,衡量各种太阳能电池组件电性能的主要指标是在标准测试条件下的额定输出功率。  由于光照变化,太阳能电池组件的输出功率也在不断变化,因此,在实际使用时,仅以额定输出功率衡量太阳能电池组件的电性能,不能完全反映其实际发电效能。对用户来说,更关心的是在户外条件下太阳能电池组件每瓦在一段时间内的比额定功率发电量,包括这段时间内所有户外光照情况下的发电量总和,它能较好反映太阳能电池组件在应用中的实际发电能力。由于地球上的纬度不同,日照和气候条件差别很大,而太阳能电池对日照条件非常敏感,因此,在某一地点得出的实验结论,在其他地点是否相同,尚需进一步验证。为了便于比较分析,本文针对地处北纬22.16°、东经114.1°深圳地区的非晶硅和单、多晶硅太阳能电池组件的比额定 功率发电量进行模拟,并对其结果进行了分析。  介绍和比较了非晶硅和单、多晶硅太阳能电池组件的优缺点。针对它们在并网光伏发电系统中的应用,采用PVsyst 软件对各种太阳能电池组件的比功率发电量进行模拟。结果表明,非晶硅太阳能薄膜电池板的比功率发电量大于单、多晶硅的比功率发电量。PVsyst 软件中图分类号:TM914.4 文献标识码:A 文章编号:1007-3175(2010)04-0030-03 几种太阳能电池组件比功率发电量的模拟与比较 31 电工电气 (2010 No.4) 生产技术成熟,是光伏 市场 上的主导产品。国际公认最高效率在AM1.5( 即大气质量1.5) 条件下为 24%,空间用高质量的效率在AM0( 即大气质量为0,日- 地平均距离为一个天文单位时,太阳的总辐射度和光谱分布) 条件下为13.5% ~18%,地面用大量生产的在AM1 条件下多在11% ~18%。大晶粒多晶硅太阳能电池的转换效率最高达18.6%。多晶硅 太阳能电池没有光致衰退效应,材料质量有所下降时也不会导致太阳能电池受影响,是国际上正掀起的前沿性研究热点。随硅元件使用的多少以及纯度的改变,单件功率不确定,同样面积的板块功率可以变化。薄膜晶体硅太阳能电池能够大大降低晶硅用量,但目前还处于研发阶段,尚未工业化。晶体硅片太阳能电池的优点是可在单位面积上获得较高的发电功率和稳定的发电性能。如果其中一小部分被遮挡,会产生孤岛效应,但由于其强光发电的特性,只有保障与阳光的合理角度才能达到应有的光电转换率,因此必须考虑安装角度问题,这使得可安装的总面积和平面布局都受到限制。

多晶硅片产能

2017-06-06 17:50:10

        江西赛维LDK太阳能高科技有限公司多晶硅片产能达到1000兆瓦,该公司成为全球产能最大的多晶硅制造企业后,进一步成为世界首个实际产能进入吉瓦(GW)俱乐部的光伏企业。  仅经过短短3年时间的发展,今天的赛维已经是全球最大的太阳能硅片供应商。在当前能源资源紧缺的形势下,发展光伏 产业 ,推动太阳能的广泛应用意义重大。    祝赛维LDK多晶硅片产能达到1000兆瓦,这不仅是赛维公司发展史上具有里程碑意义的大事、喜事,也是全市经济发展中的一大盛事,对于推动新余加快光伏 产业 发展,打造世界重要光伏 产业 基地具有十分重要的意义。     维公司多晶硅片产能达到1000兆瓦,这是公司广大员工励精图治、锐意进取、敢有作为、善于作为的结果,也是我市深入实施以新型工业化为核心的发展战略,举全市之力支持光伏 产业 发展所取得的重大成果。

多晶硅片项目

2017-06-06 17:50:10

       浙江昱辉阳光能源有限公司多晶厂第一台开方机调试成功,顺利将试生产的多晶硅锭进行了开方,这标志着公司多晶硅片项目已经进入试生产阶段。     公司从德国进口的多晶炉设备,能生产目前国内最大尺寸的多晶硅锭,单锭重量达400公斤以上。     公司采用了世界先进的顶底加热方式的长晶工艺。据技术人员介绍,这种工艺不仅可以实现高效、安全、环保、低耗能,而且生产出硅锭的晶粒尺寸大、杂质低,更有利于提高电池片的转换效率。     浙江昱辉董事长兼总经理李仙寿介绍说,此次调试成功表明,公司已经具备独立生产多晶硅片的能力。李仙寿表示,多晶硅片项目正式投产后,公司将形成月产1000万片硅片的能力。   

铜合金抛光

2017-06-06 17:50:03

铜合金抛光一、电解抛光 铜及其合金的电解抛光,广泛采用磷酸电解液。其工艺规范列于表2—4—4。 新配制的溶液,应进行通电处理。配方1通电量为5A·h/L,此时溶液中的含铜量为3g/L~5g/L;配方2通电量约为10A·h/L。表2—4—4铜及其合金也解抛光工艺规范                              在使用过程中,溶液的密度和各组分含量将发生变化,应经常测定密度并及时调整。配方2溶液中三价铬的含量(以Cr2O3计算)超过30g/L时,可以在阳极电流密度为l0A/dm2和温度为40℃~50℃下,用大面积阳极通电处理,将三价铬氧化为六价铬。不工作时,应将溶液盖严,以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。    。阴极表面的铜粉应经常除去。二、化学抛光铜和单相铜合金,可以在磷酸.硝酸.醋酸或硫酸.硝酸.铬酸型溶液中进行化学抛光。其工艺规范列于表2—4—5。表2—4—5  铜及其合金化学抛光工艺规范                                在使用过程中,需经常补充硝酸,抛光时如果二氧化氮(黄烟)析出较少,零件表面呈暗红色时,可按配制量的l/3补充硝酸。为防止过量的水带入槽内,零件应干燥后,再行抛光。 

铝的化学抛光和电化学抛光概述

2018-12-27 14:45:24

一般工程应用的变形铝合金材料或建筑铝型材,其加工成型后的半成品,一般是可以直接进入阳极氧化生产线进行阳极氧化的,所获得的阳极氧化膜在许多工程应用上表现出了良好的防护性能,起表面基本上能够达到均匀一致的外观要求。机械抛光后的铝工件,若直接进行阳极氧化处理,只能获得平滑的阳极氧化膜,还不能得到高反射率的膜层。化学抛光或电化学抛光作为高级精饰处理方法,能去除铝制品表面较轻微的模具痕和擦划伤条纹,去除机械抛光中可能形成的摩擦条纹、热变形层、氧化膜层等,使粗糙的表面趋于光滑而获得近似镜面光亮的表面,提高了铝制品的装饰效果(如反射性能、光亮度等),并可以赋予更高的商业附加值,极大地满足了消费市场对具有光亮表面的铝制品要求。因此,对于需要表面平整、均匀又光亮等特殊外观要求的阳极氧化膜,则需要预先进行化学抛光或者电化学抛光。化学抛光和电化学抛光与机械抛光一样,是制备高精饰光亮铝制品表面处理过程中不可或缺的表面预处理技术,某些情形下可以作为最终的精饰手段。  化学抛光和电化学抛光可以使特殊铝材获得非常光亮的表面,但是从抛光原理上看,化学抛光(及电化学抛光)与机械抛光却有着本质的区别。机械抛光是利用物理手段通过切削与研磨等作用使铝材表面发生塑性形变,使得表面的凸部向凹部填平,从而使铝材表面粗糙度减小、变得平滑,改善了铝材的表面粗糙度,从而使其表面平滑或光亮。但是机械抛光会引起金属表面结晶的破坏、变质而产生塑性变形层,以及因局部加热而产生组织变化层。化学抛光是一种在特殊条件的化学腐蚀,它是通过控制铝材表面选择性的溶解,使铝材表面微观凸出部位较其他凹洼部位优先溶解,而达到表面平整和光亮的目的。电化学抛光又称电解抛光,其原理与化学抛光相似,也是依靠选择性溶解铝材表面表面微小凸出部分而达到平整光滑。铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中,以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极,根据电化学尖端放电原理,通电后铝材表面微小凸出部位优先溶解,与此同时溶解产物与表面的电解液形成高电阻的粘稠性液膜层,微小凸出部位膜层浇薄,其电阻较小,从而继续保持优先溶解。同时表面凹洼部位的液膜层厚,电阻增大,凹洼部位的溶解速度相对缓慢,经过短时间电解处理后,凸出部位先被溶解整平至凹洼部位的位置,铝材表面粗糙度降低而达到平滑光亮。铝的电化学抛光在有的文献上称为电抛光或电解抛光。在工业生产中,采用化学抛光或电化学抛光的主要目的,一是取代机械抛光而获得平滑的光亮铝材表面;二是在机械抛光后再进行化学抛光或电化学抛光,以获得非常高镜面反射率的铝材或铝零部件,达到表面增亮的目的。  化学抛光和电化学抛光与机械抛光相比较,具有以下的优点:①设备简单,工艺参数易于控制,可大大节省机械抛光需要的基建与设备费用,在某些情况下部分取代或继续机械抛光,表面光亮度更高;②可处理大型零部件或大批量的小型零部件,以及形状复杂而无法进行自动化机械抛光处理的工件,这种情况下机械抛光是无法替代的;③化学或电化学抛光后的表面洁净,无残留的机械抛光粉尘,有良好的抗腐蚀性;④化学抛光的表面镜面反射率更高,金属质感也更好,表面不会形成粉霜。

纯铜抛光

2017-06-06 17:50:04

纯铜抛光工艺简单,一般使用铜抛光剂进行对铜进行抛光。使用ST501铜化学抛光剂进行的纯铜抛光工艺十分简单,无二氧化氮逸出,操作方便,速度快,可达镜面光亮,是目前为止光亮效果最好的铜抛光剂之一. ST501铜化学抛光剂已通过SGS的环保检测,符合欧盟的ROHS标准。ST501铜化学抛光剂技术指标:1. 外观:红色透明液体2. 气味:无3. PH值:<1.04. 相对比重:1.25ST501铜化学抛光剂适用范围 :铜及铜合金清洁光亮处理   适合表面:无油之清洁表面   使用方式:浸渍处理ST501铜化学抛光剂操作流程:除油除膜→漂洗→漂洗→光泽处理→漂洗→漂洗→纯水漂洗→抗氧化处理→纯水漂洗→冷风吹干→烘干ST501铜化学抛光剂注意事项:1. 工作液有一定腐蚀性,不宜与祼露皮肤接触,操作时应佩带乳胶手套   2. 处理件油污严重时,建议预作粗荒除油   3. 工作液处理一段时间后,由于有效浓度下降,铜离子增加,处理效果不佳,此时应更换新液   4. 应在通风良好之场所进行操作回答人的补充   2009-12-27 18:24通常以抛光轮作为抛光工具。抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用 金属 圆板夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。抛光时,高速旋转的抛光轮(圆周速度在20米/秒以上)压向工件,使磨料对工件表面产生滚压和微量切削,从而获得光亮的加工表面,表面粗糙度一般可达Ra0.63~0.01微米;当采用非油脂性的消光抛光剂时,可对光亮表面消光以改善外观。大批量生产轴承钢球时,常采用滚筒抛光的方法。粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中,滚筒转动时,使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的,可去除0.01毫米左右的余量。精抛时在木桶中装入钢球和毛皮碎块,连续转动数小时可得到耀眼光亮的表面。精密线纹尺的抛光是将加工表面浸在抛光液中进行的,抛光液由粒度为W5~W0.5的氧化铬微粉和乳化液混合而成。抛光轮采用材质匀细经脱脂处理的木材或特制的细毛毡制成,其运动轨迹为均匀稠密的网状,抛光后的表面粗糙度不大于Ra0.01微米,在放大40倍的显微镜下观察不到任何表面缺陷。纯铜抛光应用及其广泛。