内容简介：类金刚石薄膜作为新式的薄膜材料，具有优异的红外光学、力学、电学、声学、热学等功能，具有宽广的运用规模。跟着航空航天、红外技能；激光、光纤通信等高科技的开展，对红外光学材料提出了更高的要求。而现在运用的锗、硅、硫化锌、等光学材料，现已不能满意要求，现在国际上非常重视类金刚石薄膜技能。类金刚石薄膜作为新一代的光学材料，它具有一系列优异功能：红外区通明、硬度高、耐磨擦、化学功能安稳、耐热冲击、热膨胀系数小等，能满意日益开展的军用及民用光学仪器的需求。用类金刚石薄膜作窗口维护膜及红外光学系统的红外增透膜及维护膜，有着非常广泛的运用远景。    选用脉冲真空电弧离子镀技能来镀制类金刚石薄膜，具有膜层功能安稳、3．4μm处无吸收峰、办法简略等长处。这一新技能我院具有自主的知识产权。现在咱们已在硅、锗基片上成功地镀制了类金刚石红外增透膜、维护膜，还为国内有关厂商镀制了刀具涂层，经测定在3～5μm和8～12弘m区域均匀透过率超越95％，膜层附着力好，耐磨、耐高低温、耐化学腐蚀。咱们现可镀制类金刚膜，氮化钛、碳化钛、钼、钨、钽等膜，这些膜在红外光学、刀具、磁头维护、芯片维护、表面改性、光滑、装修等范畴有着广泛的运用。

多层薄膜材料，就是在一层厚度只有纳米级的材料上，再铺上一层或多层性质不同的其他薄层材料，最后形成多层固态涂层。由于各层材料的电、磁及化学性质各不相同，多层薄膜材料会拥有一些奇异的特性。目前，这种制造工艺简单的新型材料正受到各国关注，已从实验室研究进入商业化阶段，可以广泛应用于防腐涂层、燃料电池及生物医学移植等领域。 《科学新闻》报道说，从事多层薄膜材料研究达10年之久的麻省理工学院鲁伯诺称，多层薄膜材料的研究开发已经到了开始收获的阶段。该材料的处理工艺简单，应用前景十分广泛。 1991年，法国斯特拉斯堡路易斯博斯卡大学的Decher首先提出由带正电的聚合物和带负电的聚合物组成2层薄膜材料的设想，由于静电的作用，在一层材料上添加另外一层材料非常容易。此后，多层薄膜材料的研究工作进展很快。通常，研究人员将带负电的天然衬材如玻璃片等，浸入含有大分子量的带正电物质的溶液中，然后冲洗、干燥，再采用含有带负电物质的溶液，不断重复上述过程，每一次产生的薄膜材料厚度仅有几纳米或更薄。由于多层薄膜材料的制造可采用重复性工艺，人们可利用机器人来完成，因此这种自动化工艺很容易实现商业化。多层薄膜材料已成为新材料领域中的一支新军。 目前，研究人员已经或即将开发的多层薄膜材料主要有以下几种： 1 制造具有珍珠母强度的材料 制造具有珍珠母强度的材料。俄克拉何马州立大学化学家柯多夫，正在仿制一种具有珍珠母强度的材料。他首先在玻璃片上铺上一层带负电的粘土材料，然后再铺上一层带正电的聚合物薄膜，新产生的双层薄膜的强度可以与珍珠母相媲美。目前，柯多夫已建立了Strala材料公司，并打算将这种材料商业化，用来制造防弹衣、航空电子设备及人造骨。 2 新型防腐蚀薄膜材料 新型防腐蚀材料。佛罗里达州立大学的施利诺夫，正在利用2种聚合电解质(PDDA和PSS)制造防腐蚀涂层。他希望这种涂层可用于保护水管以及其他接触水的金属。此外，他正在开发另外一种薄膜，可望用于制药和化学工业中的分子筛选。施利诺夫还将对有相同化学结构、但互为镜像的两种药物分子进行分离。在今年6月出版的《美国化学学会期刊》上，他宣布已经研制成一种薄膜，它可让一些分子以比其镜像分子更快的速度扩散。他建立并自任总裁的NanoStrata公司所开发的“机器人多层薄膜施加系统”已销往世界各地。 3 耐高温电池薄膜材料 可使燃料电池在高温条件下工作的多层薄膜材料。宾夕法尼亚州立大学的马鲁克认为，多层薄膜材料的特性使其能够在诸如发光二极管、太阳能电池以及传感器等高技术产品中发挥重要作用。目前，马鲁克正计划制造用于燃料电池上的超薄传导离子的多层薄膜，这种材料可在高温条件下工作，而燃料电池在低温条件下工作需要昂贵的铂催化剂。新薄膜由大约10层带正电的锆铝和带负电的钙钛矿石薄膜组成。他希望这种新的薄膜可以帮助燃料电池制造厂采用成本低廉的催化剂。马鲁克还在探索由多薄层钙钛矿石形成的铁电体材料。较厚的铁电体目前用于传感器和调速控制器中，但研究人员希望降低这种材料的厚度，以减少器件的体积，并改进其性能。 美国哈拉奥维大学也在采用多层纳米半导体颗粒结构，研制光电转换效率更高的新型太阳能电池。

        多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料多晶硅薄膜太阳能电池特点：即将晶体硅薄膜生长在低成本的衬底材料上，用相对薄的晶体硅层作为太阳电他的激活层，不仅保持了晶体硅太阳电他的高性能和稳定性，而且使硅材料的用量大幅度下降，明显地降低了电池成本。多晶硅薄膜电池由于所使用的硅远较单晶硅少，又无效率衰退问题，并且有可能在廉价衬底材料上制备，其成本远低于单晶硅电池，而效率高于非晶硅薄膜电池，因此，多晶硅薄膜电池如能有效突破 产业 化瓶颈，将会在太阳能电池 市场 上占据主导地位。有如下几个特点：1) 材料成本低，工艺较复杂且尚未成熟2) 光电转换效率很高3) 电池稳定性较高4）尚未突破 产业 化瓶颈多晶硅薄膜太阳能电池技术原理1)利用晶体硅薄膜制备太阳电池的基本要求为：（a）晶体硅薄膜厚度为5-150μm；（b）增加光子吸收；（c）晶体硅薄膜的宽度至少是厚度的一倍；（d）少数载流子扩散长度至少是厚度的一倍；（e）衬底必须具有机械支撑能力；（f）良好的背电极；（g）背表面进行钝化；（h）良好的晶粒间界。2）多晶硅薄膜的现有生成方法a)半导体液相外延生长法（LPE法）LPE法生长技术已广泛用于生长高质量的外延层和化合物半导体异质结构，如GaAs、AIGaAs、Si、Ge、siGe等。LPE可以在平面和非平面衬底上生长，能获得结构十分完美的材料。用LPE技术生长晶体硅薄膜来制备高效薄膜太阳电池，近年来引起了广泛兴趣。 LPE生长可以进行掺杂，形成n-型和p-型层，LPE生长设备为通用外延生长设备，生长温度为300°C-900°C，生长速率为0.2μm-2μm／min，厚度为0.5μm-100μm。外延层的形貌决定于结晶条件，并可直接获得具有绒面织构表面的外延层。 b)区熔再结晶法（ZMR法）在硅（或其它廉价衬底材料上）形成SiO，层，用Lp-CVD法在其上沉积硅层（3μm-5μm，晶粒尺寸为0.01-0.μm），将该层进行区熔结晶（ZMR）形成多晶硅层。 控制ZMR条件，可使再结晶硅膜中的腐蚀坑密度由1×I07cm-2下降到1-2×106cm-2，同时（100）晶相面积迅速增加到90％以上。为了满足光伏电池对层厚的要求，在ZMR层上用CVD法生长厚度为50μm-60μm的硅层作为激活层，用扫描加热使其晶粒增大至几毫米，从而形成绝缘层硅结构（SOI），激活层为p 型，电阻率为1Ω·cm-2Ω·cm。为获得高质量的激活层，在进行Lp-CVD前，对ZMR层表面进行HCI腐蚀处理。为制备多晶硅薄膜太阳龟池，在激活层表面进行腐蚀形成绒面织构，并在其上进行n-型杂质扩散形成p-n结，然后进行表面钝化处理和沉积减反射层，并制备上电极，进行背面腐蚀和氢化处理，制作背电极，即制成多晶硅薄膜太阳能电池。 上述结构不但有效地降低串联电阻，还能增加背反射。在10cm×10cm面积上获得转换效率为14. 22％的多晶硅薄膜太阳电池。c）等离子喷涂法（PSM） 采用DC一RF混合等离子系统。以纯度为99.9999％，粒度为50μm一150μm的p-型晶体硅粉作为原材料，用Ar气作为携带气体，由DC-RF等离子体进行喷涂。原料贮存盒和携带气体管道涂覆Si-C-N-O化合物，防止 金属 杂质污染硅粉在高温等离子体中加热熔化。熔化的粒子沉积在衬底上，衬底由加热器加热，沉积前，用红外热偶测试衬底温度，使之保持在1200℃，沉积室由不锈钢制成，用无油泵抽真空，其真空度为1.33×10-2pa。等离子体由Ar和少量H构成，沉积时压强为8×10-8pa。沉积的多晶硅膜厚度为200μm-1000μm。多晶硅晶粒尺寸为20μm-50μm，沉积速率大于10μm／s。用等离子体喷涂沉积多晶硅薄膜太阳电池，全部采用低温等离子CVD工艺。用碱或酸溶液腐蚀沉积的多晶硅层，在其上于200℃用等离子CVD形成厚度约200×10-8cm的微晶硅作为发射层，并制备ITO减反射层和银浆电极构成太阳电池。面积为lcm2，在AM1.5、100mW／cm2条件下，电他转换效率为了η=4.3%。d)叠层法 在较低的温度300℃下，用叠层技术，在经预先氟化处理的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜，该方法类似于沉积a-Si：H薄膜。在低温下用等离子增强化学气相沉积法（PELVD）沉积大面积多晶硅薄膜。 一般，p。型掺杂多晶硅薄膜用叠层技术沉积，其厚度为0.28mm～5.78mm。典型的沉积条件为：SiF4流量为60SCCm，氢流量为15SCCm，沉积温度为300℃，微波功率为200W，压强为53.3Pa。进行卜型掺杂沉积时，在氢气中混合10ppmPH3，流量为18SCCm。每次沉积持续和原子氢处理时间为10s。由于沉积时，掺杂用的PH3和源SiF4加入氢等离子体区域，这样可以较好地控制膜中的P和Si的比例。在100K-400K温度范围内，用霍尔效应和电导测量确定其载流子输运特性。实验表明，材料结构是膜厚的函数，霍尔迁移率随膜厚度增加而增加，样品的最高迁移率区是在薄膜表面附近。载流子电导由晶粒问界势垒决定。e)化学气相沉积法（CVD）用化学气相沉积法（CVD），在铝陶瓷衬底上沉积3μm-5μm的硅薄膜。为了获得高质量的硅薄膜，铝陶瓷衬底上预先沉积Si3N4／SiOx双层膜。在硅薄膜沉积时，引入硼掺杂。用CW-Ar激光束溶化沉积的硅膜，在氮气氛中，400℃-500℃下再结晶。制备薄膜太阳电池时，用常规方法进行P扩散和沉积ITO膜，用氢等离子处理来钝化晶体缺陷。电池也可采用MgF2（110×10-8cm）／TiO2（650×l0-8cm）双层减反射膜，MgF2层用电子束蒸发方法沉积，TiO2层用常压CVD沉积。该方法制备的太阳电池厚度为4．2μm，短路电流为25.5mA／cm2，开路电压为0.48V，FF为0．53，η=6.52％。f)固相结晶法（SPC）开始材料a-Si用SiH，或Si2H，辉光放电沉积在平面或绒面衬底上，沉积时加A PH3，形成p。掺杂层，其作用起增强晶核和形成大晶核的作用。p-掺杂层典型的厚度为170nm，在其上沉积不掺杂的a-Si层。通过改变沉积条件，如压力，RF功率等来改变不掺杂的a-Si层的结构。沉积后，在真空中600℃下进行退火，使a-Si层进行固相结晶，形成多晶硅。用Raman光谱研究未掺杂a-Si结构和多晶硅膜关系，经Secco腐蚀显露出晶界，用扫描电镜测量晶粒尺寸和密度用上述SPC法制备的多晶硅薄膜电池，其结构为衬底采用钨，SPC后n型多晶硅层厚度为～10μm，在n型多晶硅上沉积卜型a-Si和p型a-Si，其厚度为～10μm，在p型a-Si上沉积～70nm的ITO膜，并沉积 金属 电极。制作的多晶硅太阳电池，面积为1cm2，转换效率为6．3％，当波长为900nin时，电他的收集系数为51％，电他少数载流子扩散长度为11μm，最高短路电流为28.4mA／cm2。p型掺杂层的P杂大于1020cm-3。 3)根据目前的文献多晶硅薄膜适用的衬底材料（类似于非晶硅薄膜电池的导电玻璃）如下a)单晶硅 b）多晶硅 c）石墨包SiC d）SiSiC e）玻璃碳 f）SiO2膜多晶硅薄膜太阳能电池近期技术发展情况1)根据公开信息，无锡尚德自2001年起已在研发多晶硅薄膜生产技术，２００５年，尚德在国家科技部和江苏省、无锡市三级的支持下，加快第二代多晶硅薄膜太阳电池大规模 产业 化研究，但目前尚未披露实质性进展；2)德国夫朗霍费太阳能研究所采用RTCVD法在SSP衬底上制备的太阳能电池转换效率可达8％以上；3)1998年北京市太阳能研究所赵玉文等报道了以SiH2Cl2为原料气体，采用快速热化学气相沉积（RTCVD）工艺在石英反应器中沉积多晶硅薄膜。气源为H2和SiH2Cl2的混合物，石英管内配有石墨样品托架，采用程控光源将石墨样品托架加热到1200℃。试验所用衬底为重掺杂磷非活性单晶硅片或非硅质底材。在1030℃下薄膜生长速率为10nm／s，研究了薄膜生长特性，薄膜的微结构，并研制了多晶硅薄

用电子束反应蒸发方法制备了氧化镍薄膜，分别用三电机和二电极方法测量了薄膜在KOH电解液中的循环伏安特性和循环变色寿命，经过170h约17000次电致变色循环试验，薄膜仍保持相当好的变色性能。X-射线衍射（XRD）分析发现，原始态薄膜含有NiO多晶颗粒，经变色循环寿命试验后，薄膜仍保持其原先的结构。红外（IR）反射测量发现，薄膜内不含有结晶水式结构水。X-射线光电子能谱（XPS）分析表明，薄膜中的主要组分在原始态时为NiO，经循环寿命试验后，在致色时为NiOOH，消色态时为Ni（OH）<,2>。根据测试结果，讨论了氧化镍薄膜的电致变色机理。一种纳米金颗粒分散氧化镍复合光学薄膜制备方法，属于纳米金属颗粒与无机非金属材料的复合领域。本发明采用溶胶－凝胶法制备Ａｕ↓［ｘ］／Ｎｉ↓［（１－ｘ）］Ｏ复合光学薄膜，其中，ｘ表示Ａｕ的质量百分比，０＜ｘ≤０．９。原料为氯金酸与硝酸镍，溶剂为乙二醇独甲醚，硝酸镍溶液的浓度为０．１～１ｍｏｌ／Ｌ。本发明的优点在于：本发明使用溶胶－凝胶法制备前驱体溶液，薄膜化学计量成分容易控制；用匀胶机制备薄膜。工艺简单，价格低廉，反应温度２００℃～７００℃，比传统烧结方法低，制备周期短，节省能源；制备的纳米金颗粒分散氧化镍复合光学薄膜具有优良的非线性光学特性，在特定的波长处可观察到吸收峰，在光开关，光计算机，光波分离。一种纳米金颗粒分散氧化镍复合光学薄膜，其特征在于，薄膜的化学式为Ａｕ↓［ｘ］／Ｎｉ↓［（１－ｘ）］Ｏ，其中，ｘ表示Ａｕ的质量百分比，０＜ｘ≤０．９。在研究薄膜所呈现出的不同电致变色性能的同时，分析氧化镍薄膜电致变色性能变化的规律和微观机理。 

 碳化硅（SiC）又称碳硅石、金钢砂、耐火砂，是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑为原料通过电阻炉高温冶炼而成。在当代C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中，碳化硅为应用最广泛、最经济的一种。碳化硅的硬度介于刚玉和金刚石之间，机械强度高于刚玉，可作为磨料和其他某些工业材料使用。工业用碳化硅于1891年研制成功，是最早的人造磨料。在陨石和地壳中虽有少量碳化硅存在，但迄今尚未找到可供开采的矿源。纯碳化硅是无色透明的晶体。工业碳化硅因所含杂质的种类和含量不同，而呈浅黄、绿、蓝乃至黑色，透明度随其纯度不同而异。碳化硅晶体结构分为六方或菱面体的 α-SiC和立方体的β-SiC(称立方碳化硅)。α-SiC由于其晶体结构中碳和硅原子的堆垛序列不同而构成许多不同变体，已发现70余种。β-SiC于2100℃以上时转变为α-SiC。碳化硅的工业制法是用优质石英砂和石油焦在电阻炉内炼制。炼得的碳化硅块，经破碎、酸碱洗、磁选和筛分或水选而制成各种粒度的产品。碳化硅由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好，除作磨料用外，还有很多其他用途，例如：以特殊工艺把碳化硅粉末涂布于水轮机叶轮或汽缸体的内壁，可提高其耐磨性而延长使用寿命1～2倍；用以制成的高级耐火材料，耐热震、体积小、重量轻而强度高,节能效果好。低品级碳化硅（含SiC约85％）是极好的脱氧剂，用它可加快炼钢速度，并便于控制化学成分，提高钢的质量。此外，碳化硅还大量用于制作电热元件硅碳棒。

碳化钨粉(WC)是生产硬质合金的主要原料，化学式WC。全称为 Wolfram Carbide, 也译作tungsten carbide为黑色六方晶体，有金属光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体。熔点2870℃, 沸点6000℃，相对密度 15.63(18℃)。碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸－氢氟酸的混合酸中。纯的碳化钨易碎，若掺入少量钛、钴等金属，就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨，常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物，以提高抗爆能力。碳化钨的化学性质稳定。提炼方法: 用金属钨粉和炭黑为原料，按一定比例配成混合料，将混合料装入石墨舟皿中，置于炭管炉内或高中频感电炉中，在一定温度下进行炭化，再经球磨、筛分即得碳化钨粉。粗晶碳化钨分子式为WC，具有一些中、细晶WC粉不同的特殊性能和用途，尤其是高温WC具有结构缺陷少、显微硬度高、微观应变小等优点，广泛应用在地矿开采、石油钻探、车床加工等方面。硬度仅次于金刚石，价值极高。目前粗晶WC的生产方法主要有：1.钨粉高温碳化  高温长时碳化，可以使WC的晶格缺陷降至最低、微观应变最小，WC的塑性得到改善。这是目前国内的主要生产方式。碳化的温度不宜超过1800-1900℃，在超过1800℃，WC晶粒间易发生晶界融合长大，致使WC粒度分布不均。一些研究表明，降低原料钨的粒度，提高碳化温度，降低碳化时间，可以提高获得的WC品质。2.氧化钨掺锂盐的中温还原和高温碳化  该法原理为：通过加入添加剂，加速WO3还原过程中的挥发沉积速率，致使钨粉粒度在较低的温度下得以长大，用于钨粉长大的添加剂为锂盐，该法主要用于制取矿用合金和冷微模合金。3.添加钴、镍高温碳化  在钨粉配碳时加入少量钴、镍或它们的氧化物，可以改变碳化机理，提高碳化的速度，此种方法生产的粗晶WC的晶粒度受配钴量的影响极大，配钴量越大所得WC越粗。4.添加钠盐法  在APT中添加钠盐，然后在较高的温度下还原，可得粒度大于10μm的粗钨粉，再经高温碳化可得粗颗粒WC粉。该法还处于研究中，一些技术还不成熟。5 .APT快速锻烧快速还原法  此法的实质是将APT在850-1000℃下于氧化气氛中快速加热锻烧，然后在氢气炉中快速加热到1100-1300℃的温度下还原，用此种方法可制备粒度为25-36μm的钨粉。6. 卤化物沸腾层氢还原法  将钨的氯化物或氟化物在沸腾层中用H2还原。首先将H2和原始钨粉送入反应器底部，制成钨沸腾层，而卤化物蒸气由反应器上部通入反应器内，在给定的最佳温度下被H2还原成钨粉，并沉积在原始钨粉上，使原始钨粉逐渐粗化，定期有反应器内部卸出钨粉。用此种方法制备的钨粉粒度大于40μm。7.粗晶铝热工艺  通过高吸热反应使WC直接从钨精矿中生产出来，该法能生产高纯度、粗颗粒、大块、单相WC晶粒。8.钨精矿熔盐碳化法（气体喷射法） 首先在1050-1100℃的高温下，用Na2SiO3-NaCl熔盐将钨精矿分解，将所生成的Na2WO4-NaCl熔盐相同含有Fe、Mn、Ca的硅酸盐相分离，然后用甲烷喷入熔盐相中，生成粗晶WC。该法优点成本低，约为通常60%，缺点是杂质（Mo、Cr、Fe、Ni、Si）含量偏高，需要长时间的化学处理。

碳化硅板是民用 产业 中不可缺少的材料。碳化硅板导热性能好，热振稳定性高，高温下长时间使用不变形、不软化、不产生疏松膨胀，可保持碳化硅固有的高的热传导率，使用在高温窑炉上，作为隔焰板使用，可显著提高炉膛温度，节约能源、增加 产量 ，提高经济效益。碳化硅板特点：1.耐火度高．2.导热性能好．3.膨胀系数小．4.强度高.5.超薄型，节能．碳化硅板适用于各种日用瓷、艺术瓷、中高档卫生瓷、磁性材料、建陶、砂轮等窑炉上，作为隔焰板、推板、棚板、支架、匣钵使用，应用于燃煤、燃气、燃油等各种工业窑炉中，也可作为内衬材料，及粉末冶金 行业 罐体材料使用。未来碳化硅板的应用会越来越广泛。

铜铟镓硒薄膜主要用于太阳能电池的生产.铜铟镓硒薄膜太阳能电池板的制造 　　用交替溅射的方法制备铜铟镓硒薄膜太阳能电池预置层。通过可变占空比的电源控制器实现对Cu/Ga合金靶以及In靶溅射时间的控制，进而实现对最后元素配比的控制。实验中发现，在一个溅射周期中，Cu/Ga合金靶溅射时间对最后成分影响最大，其次是In靶溅射时间，非溅射时间的长短对成分也有影响。交替溅射制备的铜铟镓硒预置层经过XRD检测，合金相主要为Cu11In9。铜铟镓硒薄膜太阳能电池板的应用 　　铜铟镓硒薄膜太阳电池具有生产成本低、污染小、不衰退、弱光性能好等特点，光电转换效率居各种薄膜太阳能电池之首，接近晶体硅太阳电池，而成本则是晶体硅电池的三分之一，被国际上称为“下一时代非常有前途的新型薄膜太阳电池”。此外，该电池具有柔和、均匀的黑色外观，是对外观有较高要求场所的理想选择，如大型建筑物的玻璃幕墙等，在现代化高层建筑等领域有很大 市场 。 　　铜铟镓硒电站的建设已经达到兆瓦级水平，据瑞士的SolarMax光伏并网逆变器公司提供的资料，2008年9月在西班牙建成了的3.24兆瓦铜铟镓硒电站，并成功运行。这必将加快CIGS的商业应用。当前全球大环境景气不佳，传统硅晶太阳能电池厂正面临售价跌破成本压力，但铜铟镓硒薄膜太阳能电池具成本优势，逐步崭露头角。全球经济衰退意味着投资风险的加大，而中外风投却在这时不惧风险，集体逆市投资太阳能薄膜电池。薄膜电池已成为国内光伏领域新的投资热点。其中CIGS转换效率足以媲美传统太阳能电池，加上稳定性和转换效率都已相当优异，被视为是相当具有潜力的薄膜太阳能电池种类。未来几年，铜铟镓硒薄膜太阳能电池的销售将会加速增长，到2015年，CIGS将占薄膜太阳能电池 市场 的43.3%。想要了解更多关于铜铟镓硒薄膜的资讯，请继续浏览上海 有色 网（ www.smm.cn ） 有色金属 频道。 

长久以来，人们都以为铝箔是要求低湿蒸汽和氧气透过率的层压包装薄膜结构的抱负阻隔层。事实上，平板铝箔湿蒸汽透过率(MVTR)和氧气透过率(OTR)都挨近零。由于有这些特性，所以传统上一向用于纸／聚乙烯／金属薄片／聚乙烯(PPFP)结构，一起在外层的纸上能够经过印刷和涂布以前进其外形漂亮度。     食物中常见的以PPFP结构包装的有配料粉末、调料、汤、大米、烤面包片、填塞料、干奶酪和养分／能量饮料以及糖块。这些食物要求包装不只要确保它们不被降解，并且要有很好的耐刺穿性，由于许多食物有尖利的棱角。在竞赛剧烈的商场，节约本钱也是要考虑的一个重要方面。     铝箔以外的挑选     现在，镀金属薄膜技能的发展为加工商和较终用户供给了除金属薄片外的另一种挑选。镀金属处理的聚(MOPP)薄膜现在答应加工商和较终用户开发“无金属薄片”包装，这种包装与铝箔结构比较具有阻隔性更强、漂亮、耐穿刺性和经济实惠等方面的优势。Toray Plastics美国公司新的镀金属OPP产品是一种名为PCF—2的超薄45—gauge膜，此膜由专有技能制造，可能是包装行业界现在可运用的较薄的MOPP薄膜。     薄膜的一个显着长处是每磅薄膜可制造的面积更大。厚度为45—gauge时，与普通运用的0．000285英寸的金属薄片仅有的36，000平方英寸／磅，以及盛行的0．00025英寸的金属薄片具有的41，100平方英寸／磅比较，超薄MOPP膜每磅可制造68，200平方英寸／磅。虽然细薄膜每磅的产值更高——超越较薄铝金属薄片的65％，但它们的湿蒸汽透过率(MVTR)和透氧率(OTR)十分低。在华氏100度和90％相对湿度(RH)下，典型的MVTR仅为0．0l克／100平方英寸／天，而在华氏73度和0％RH下，OTR为1．5毫升／100平方英寸／天。     粘合     加工商面临的一个遍及问题是重复处理后的传统PPFP结构的脱层，在零售环境下食物包装经常呈现这样的状况。不过，现在能够加以运用的新MOPP膜可协助战胜这种问题。与惯例电晕处理的PP比较，它能够供给非金属层压和挤出层压或涂层之间更好的金属粘附力和更强的粘合强度。新MOPP膜的金属粘合强度超越400g／in，一般状况下的脱层现象成为不可能。     新的镀金属薄膜不只供给丁比传统PPFP结构更好的金属粘附力，并且粘附力比挤出层压和涂布薄膜非金属面的更超卓。例如，新MOPP薄膜非金属面的粘合强度，经过运用一层挤出涂布的低密度聚乙烯(LDPE)进行测验。丈量的粘合强度为477g／in，简直比传统MOPP结构的369g／in高出30％。一起，新MOPP薄膜与PPFP结构比较，也能供给更超卓的耐穿刺性，虽然它们很薄。     挠曲性     新MOPP薄膜的初始性质与传统的PPFP结构比较有优势，经过重复操作和处理后，其优势乃至会变得更显着。不像金属薄片曲折后仅几分钟就构成针孔，MOPP薄膜在重复曲折后还能够坚持其阻隔性。为了模仿此类型的重复性挠曲可能会遇到的实在环境，TomyPlastics美国公司测验了新超薄MOPP膜和运用Gelbo测验器取样的传统PPFP结构的样本。     Gelbo测验器由两个直径为90毫米的可固定样本的心轴组成，一个是可移动的，一个是固定的，每次循环开端的时分相对间隔为180毫米。运用重复歪曲和碾压薄膜来曲折被测验的样本，一般为每分钟45个循环。根据测验的样本，测验冲程的严峻强度和数量会有所改变，，经过运用五颜六色松脂在整个以白色为底色的歪曲薄膜中上色以断定是否有针孔。     经过测验，Toray的新MOPP薄膜能接受住重复的“歪曲”和“碾压”循环，至少16个循环内不会呈现针孔以及损失阻隔性。而传统的PPFP结构几个循环后就接受不住，且重复的歪曲会使状况敏捷恶化。     新MOPP薄膜的另一个重要优势是即使是在超出正常处理强度的条件下仍能够长时间坚持其漂亮的外形。而铝箔则不能康复折痕和皱纹，有了任何变形之后都不能康复，这使得食物包装看上去很陈腐。另一‘方面，新MOPP薄膜包装具有柔韧性，并能康复在处理和操作过程中引起的任何变形，所以不论被客户或商铺雇员处理过多少次，它都能坚持其本来的外形和魅力。     铝本钱的约束     在经济方面，新MOPP薄膜比传统PPFP结构更有优势，由于食物制造商能够运用相同分量的薄膜生产出更多的包装，另一个原因则是对铝报价的考虑。铝和铝合金本钱的增长速度高于聚。别的，美国商场对铝材料继续的高需求将会使其报价更高。结果是铝和聚之间的报价距离将会越拉越大。     为了下降传统PPFP结构的本钱，加工商求助于更细规格的金属薄片。但是，这对衬底的初始阻隔性并没有很大的协助，乃至使得在正常处理过程中更简单呈现针孔。另一方面新MOPP膜的短期和长时间阻隔性不会随厚度的添加而前进。事实上，新45—gauge膜具有和80—gaugeMOPP膜相同的阻隔性。     相对于传统的PPFP结构而言，新呈现的MOPP膜代表了技能的——个重要前进，它能供给上述的一切优势。

什么是碳化钨粉？碳化钨粉(WC)是生产硬质合金的主要原料，化学式WC。全称为 Wolfram Carbide, 也译作tungsten carbide为黑色六方晶体，有 金属 光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体。熔点2870℃, 沸点6000℃，相对密度 15.63(18℃)。碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸－氢氟酸的混合酸中。纯的碳化钨易碎，若掺入少量钛、钴等 金属 ，就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨，常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物，以提高抗爆能力。碳化钨的化学性质稳定。碳化钨粉的主要性质：碳化钨粉呈深灰色粉末，能溶于多种碳化物中，尤其是在碳化钛中的溶解度很大，形成TiC-WC固熔体。钨与碳的另一个化合物为碳化二钨，化学式为 W2C，熔点为2860℃，沸点6000℃,相对密度17.15。其性质、制法、用途同碳化钨。碳化钨粉的主要用途：碳化钨粉主要用于生产硬质合金。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成间隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等。碳化钨粉的产地：国内主要生产企业有株洲、自贡、南昌、旅顺硬质合金厂。每年生产的碳化钨粉主要供国内使用，部分出口到日本、美国、德国、意大利、法国、瑞典等国家。质量规格碳化钨粉的技术条件是GB/T4295—93，一般执行的是企业内控标准，碳化钨粉质量规格 　　类 别 费氏平均粒度(μ) 总碳量(%) 游离碳(%) WC-1 ≤1.0 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-2 1～1.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-3 2～3.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-4 4～5.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-5 6～7.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-6 8～11.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-7 12～15.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-8 ≥16 6.08～7.18 ≤0.08 　　表6-6-43 碳化钨粉化学成分指标 　　级别含量% WC Fe Mo Al Si Ca Mn Mg Ni Na 　　FWC-1 ≥99.8 ≤0.04 ≤0.010 ≤0.001 ≤0.01 ≤0.005 ≤ 0.002 ≤0.002 ≤0.005 ≤0.003 　　FWC-2 ≥99.7 ≤0.06 ≤0.015 ≤0.002 ≤0.01 ≤0.008 ≤ 0.002 ≤0.004 ≤0.008 ≤0.005更多有关碳化钨粉请详见于上海 有色 网

碳化钨粉是投资者想知道的信息，因为了解它可以帮助操作。 碳化钨粉主要用于生产硬质合金。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成间隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物碳化钨高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等用 金属 钨粉和炭黑为原料，按一定比例配成混合料，将混合料装入石墨舟皿中，置于炭管炉内或高中频感电炉中，在一定温度下进行炭化，再经球磨、筛分即得碳化钨粉。碳化钨粉的技术条件是GB/T4295—93，一般执行的是企业内控标准，部分企业技术条件见表6-6-42、表6-6-43。碳化钨表6-6-42 碳化钨粉质量规格 　　类 别 费氏平均粒度(μ) 总碳量(%) 游离碳(%) 　　WC-1 ≤1.0 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-2 1～1.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-3 2～3.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-4 4～5.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-5 6～7.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-6 8～11.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-7 12～15.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-8 ≥16 6.08～7.18 ≤0.08 　　表6-6-43 碳化钨粉化学成分指标 　　级别含量% WC Fe Mo Al Si Ca Mn Mg Ni Na 　　FWC-1 ≥99.8 ≤0.04 ≤0.010 ≤0.001 ≤0.01 ≤0.005 ≤ 0.002 ≤0.002 ≤0.005 ≤0.003 　　FWC-2 ≥99.7 ≤0.06 ≤0.015 ≤0.002 ≤0.01 ≤0.008 ≤ 0.002 ≤0.004 ≤0.008 ≤0.005包装　　一般采用内塑料袋封口，外铁桶包装，每桶净重不超过50kg。检验标准　　出口碳化钨粉化学成分仲裁分析方法按照GB4324—84进行，费氏平均粒度按GB3249—82进行，取样方法参照GB5314—85进行，主含量(WC)采用差减法计算。如果你想更多的了解关于碳化钨粉的信息，你可以登陆上海 有色 网进行查询和关注。 

激光熔覆纳米碳化钨涂层组织和性能：在碳化钨中，碳原子嵌入钨金属晶格的间隙，并不破坏原有金属的晶格，形成填隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等。钨与碳的另一个化合物为碳化二钨，化学式为 W2C，熔点为2860℃，沸点6000℃,相对密度17.15。其性质、制法、用途同碳化钨。采用7KW横流CO2激光器在2Crl3不锈钢基体上进行了激光熔覆纳米WC粉末的实验。使用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、X射线能量色散谱仪（EDAX）、显微硬度仪等设备检验了涂层的组织和性能。结果表明：采用激光熔覆纳米WC粉末的方法可以得到致密的复合涂层；涂层熔覆区呈现出典型的Fe的胞状树枝晶和树枝晶间的Fe-C-W组织；XRD分析表明，复合涂层主要由Fe、WC、W2C和Fe3C几种相组成；涂层的性能测试结果表明：表面硬度为1750HV．熔覆层平均硬度为1200HV，耐磨损性能比基体提高了2．5倍。阀门是机械工业中用量大而广的主要基础部件之一.阀门在频繁的启闭过程中,其密封面受到擦伤,加上介质的腐蚀、冲刷及高温等因素的作用,而使阀门密封面过早的损坏,成为密封不严,发生泄露的根源之一.采用HVOF喷涂钴基炭化钨合金粉末或镍基炭化钨合金粉末还有铬基炭化钨合金粉末硬度可以达到HV1200耐高温850度,使阀门零部件,耐磨损、耐腐蚀、耐高温、抗氧化。超过手工堆焊、渡铬、渗碳、调质、工艺，可使生产效率提高2倍以上，生产费用降低50%以上，使用寿命可延长数十倍。碳化钨涂层喷涂零部件实例：闸板、阀座、阀心、柱塞、球体、法兰、阀杆。 

碳化钨焊条是什么？碳化钨焊条是采用碳钢为焊芯的低氢钠型药皮的堆焊焊条。依靠药皮中碳化钨合金过渡，堆焊 金属 含钨量40%～50%。由于要皮厚，因而套筒较长，在焊条发红后药皮容易有小块脱落，所以宜用直流电流，焊条节正极，使用较小电流。碳化钨焊条用途：适用于受剧烈磨粒磨损部件的修复和堆焊耐岩石强烈磨损之机械零件。如：混泥土搅拌叶片、推土机和泵浦叶片、挖泥机叶片、高速混沙箱，螺旋推进器（蛟龙）叶片，排风机叶轮，搅拌机叶片，泥浆泵，煤矿溜槽，水泥厂塔盘、塔尖、筚齿、衬板、鄂板、破石机、锤头、电铲斗齿、钻头修补等的堆焊等。堆焊层硬度HRC≥65碳化钨焊条特点：焊条不需要焊前预热，焊后保温，高硬度、高耐磨、耐冲刷磨损等。耐磨性好、抗岩石砂磨粒磨损，延长设备使用寿命4-8倍。碳化钨焊条主要 金属 成分 C 1.5 Cr≤3.00 Ni≤3.00-7.00 Si≤1.00 W≥6.0-7.5 焊条用碳化钨过渡堆焊 金属 含钨60%-80%工艺精良脱渣方便电弧稳定！ 碳化钨合金电焊条产品特性:碳化钨合金电焊条主要成分为W2C WC合金具有硬度高HRA90度左右具有耐高温.熔点1600-1700℃和极强的高耐磨性。适用于石油钻具，建材机械甘蔗破碎刀具、矿山设备，破碎机锤头修补，电厂风机叶片 粮食农业机械等 易磨损件的堆焊，使之成合金耐磨具。注意事项：1.焊前焊条须经300-350℃烘焙1h。 　　2.堆焊件为碳钢时预热温度在300℃以上，堆焊件为低合金钢时预热温度为400-500℃，堆焊件为不锈钢时预热温度为600-650℃。 　　3.低合金钢及不锈钢焊后须经700℃退火熔敷 金属 化学成份：　C W Mn Si FeC1.5-3.0 40.0-50.0 ≤2.0 ≤4 余量堆焊层硬度：HRC≥65熔敷 金属 硬度：焊条直径（mm） 3．2 4．0 5.0焊接电流（A） 70-120 140-180 180-220更多有关碳化钨焊条请详见于上海 有色 网

纳米碳化硅由于自身的微观形貌和晶体结构使其具备更多独特的优异性能和更加广泛的应用前景。纳米碳化硅被普遍认为有望成为第三代宽带隙半导体材料的重要组成单元。SiC纳米材料具有高的禁带宽度，高的临界击穿电场和热导率，小的介电常数和较高的电子饱和迁移率，以及抗辐射能力强，机械性能好等特性，成为制作高频、大工率、低能耗、耐高温和抗辐射器件的电子和光电子器件的理想材料。SiC 纳米线表现出的室温光致发光性，使其成为制造蓝光发光二极管和激光二极管的理想材料。近年来的研究表明：微米级SiC晶须已被应用于增强陶瓷基、 金属 基和聚合物基复合材料，这些复合材料均表现出良好的机械性能，可以想象用强度硬度更高及长径比更大的SiC 一维纳米材料作为复合材料的增强相，将会使其性能得到进一步增强。SiC一维纳米材料具有[1]阈值场强低，电流密度大，高温稳定性好等优异特点可望作为电场发射材料，利用这一特性可制成第三代新型电子光源，并将在图像显示技术方面发挥巨大作用。随着研究的深入，研究者还发现一维SiC纳米结构在储氢、光催化和传感等领域都有广泛的应用前景。纳米碳化硅具有纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低的物理特性，具有极好的力学，热学，电学和化学性能，即具有高硬度，高耐磨性和良好的自润滑，高热传导率，低热膨胀系数及高温强度大等特点。纳米碳化硅的用途广泛：1、 改性高强度尼龙合金用新材料：纳米sic粉体颗粒在高分子复合材料中相容性好分散度好，和基本结合性好，改性后高强度尼龙合金抗拉强度比普通PA6提高10%以上，耐磨性能提高2.5倍以上&def用户反应很好。 主要用于装甲履带车辆高分子配件、汽车转向部件，纺织机械，矿山机械衬板，火车部件等在较低温度下烧结就能达到致密化。2、 改性特种工程塑料聚醚醚酮（PEEK）耐磨性能：用偶联剂进行表面处理后的纳米碳化硅，在添加量为10%左右时，可大大改善和提高PEEK的耐磨性。（用微米级碳化硅填充PEEK的磨损方式以梨削和磨粒磨损为主，而用纳米级碳化硅填充PEEK的磨损方式以轻微的粘着转移磨损为主。）3、 纳米碳化硅在橡胶轮胎的应用：添加一定量的纳米碳化硅在不改变原胶配方进行改性处理，在不降低其原有性能和质量的前提下，其耐磨性可提高15%—30%。另外，20纳米碳化硅应用在橡胶胶辊、打印机定影膜等耐磨、散热、耐温等橡胶产品。4、 纳米ＳｉＣ复合镀镍等 金属 表面： 采用纳米级微粒第二项混合颗粒，镍为基质 金属 ，在 金属 表面形成高致密度，结合力非常好的电沉积复合镀层，其 金属 表面具有超硬（耐磨）和减磨（自润滑）耐高温的特点。其复合镀层显微硬度大幅度提高、耐磨性提高3-5倍、使用寿命提高2-4倍、镀层与基体的结合力提高30-40% 、覆盖能力强，镀层均匀、平滑、细致。5、 其他应用：高性能结构陶瓷（如火箭喷嘴、核工业等）、吸波材料、抗磨润滑油脂、高性能刹车片、高硬度耐磨粉末涂料、复合陶瓷增强增韧等。纳米碳化硅拥有广阔的 市场 前景。 

碳化硅粉是极好的耐磨损耐高温材料。碳化硅粉由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好，除作磨料用外，还有很多其他用途，例如：以特殊工艺把碳化硅粉末涂布于水轮机叶轮或汽缸体的内壁，可提高其耐磨性而延长使用寿命1～2倍；用以制成的高级耐火材料，耐热震、体积小、重量轻而强度高,节能效果好。碳化硅粉具有极好的力学、热学、电学和化学性能，即具有高硬度、高耐磨性和良好的自润滑、高热传导率、低热膨胀系数及高温强度大特点。其主要用途包括：1制造结构器件：如冶金，化工，机械，航天及能源等 行业 中使用的滑动轴承，液体燃料喷嘴，坩埚，大功率高频率模具，半导体元器件等。2. 金属 及其它材料表面处理： 刀具，模具，耐热涂层，散热表面涂层，防腐涂层及吸波涂层等。3.复合材料：制备 金属 基，陶瓷基，高分子基复合材料。碳化硅粉已经成为工业 产业 中重要的应用材料。

碳化钨瓦楞辊因为耐磨一开始就用较低的齿高（瓦楞率小），而且能保持长久，可以省下大量的芯纸和胶量，纸板质量不变！重要的是：碳化钨瓦楞辊在整个辊运转寿命中，它的楞高几乎不变。从性能上说，采用碳化钨涂层，保证了瓦楞辊有足够的硬度；在 价格 上基本相同，但就纸板品质而言，碳化钨瓦楞辊在瓦楞楞高、品质上能够保持统一。2004-2009年，碳化钨瓦楞辊的概念已经普及开来之后，浙江的黄岩时代纸箱厂在今年初从bhs买了一对碳化钨瓦楞辊。在时代纸箱厂的总经理陈荣看来：瓦楞纸板生产线的心脏是单面机，单面机不仅是影响纸板质量的第一关键部位，还是控制成本的关键所在。而瓦楞辊又是单面机的核心，是重中之重，所以选择合适的瓦楞辊是非常重要的问题所在。 2004年初，时代纸箱厂购买了进口碳化钨瓦辊，使用近一年以来觉得远远高出预先的期望值，甚至有物超所值的感觉。陈荣说：“从性能上说，因为采用碳化钨涂层，保证了瓦楞辊有足够的硬度。有了这一前提，就能够生产出有利于提高纸板强度的楞形，而不用去考虑设计的楞形经不住芯纸的磨擦。”目前 市场 上已有的磐石形楞及德国bhs公司的唇形楞就是从原来的u型、v型、uv型的简单分类上，研制出更能够让纸张发挥其最大物理指标的楞型。价格 上，时代纸箱厂采购的1600×305进口碳化钨不到4万美元，是国内 价格 的2倍～3倍。但是从整体使用寿命去分析：进口碳化钨瓦楞辊是 3500万长米，而国产瓦楞辊寿命仅800万长米，那么一对进口瓦辊 价格 加一次修复的费用，等于两对国产瓦楞辊加工硬化次修复费用。在 价格 上基本相同，但就纸板品质而言，进口碳化钨瓦辊在瓦楞楞高、品质上能够保持统一，而国产瓦辊在新购或新翻磨时能有好品质的纸板，但有一定的加工正放量、瓦楞楞偏高，浪费了芯纸的收缩率，增加成本。国产瓦楞辊运行2～4个月后瓦辊磨损，瓦楞会变低，纸板品质下降，最终影响业务发展。超级超耐磨碳化钨涂层瓦楞辊优异的经济性能： 1、硬度仅次于金刚石优异的耐磨粒磨性能大于镀铬瓦楞辊3--5倍的使用寿命; 降低了每平方米瓦楞纸板和瓦楞辊的使用费用；减少了65-80%瓦楞辊的更换次数和成本（包括停机和更换等费用）；避免了因瓦楞辊磨损中凹而造成的相关部件的经常性损耗（如涂胶辊、匀胶辊和压力辊等）2、稳定的瓦楞纸板质量由于优异的耐磨损性能，瓦楞每次使用周期中的楞高磨损在0.06--0.08毫米，优化后的楞型几乎不变形，涂胶量不会因楞顶磨损而增大，避免了各种常见的纸板质量缺陷，确保了瓦楞纸板始终如一的理想品质。3、降低了瓦楞纸板的耗材成本碳化涂层瓦楞辊可以优化获得耗纸率更低的楞型；极小的楞高磨损量可比镀铬瓦楞辊降低大于1%的耗纸成本；避免了各种常见的纸板质量缺陷，降低大于30--50%的废品损失。超级超耐磨碳化钨涂层瓦楞辊的技术指标：1、瓦楞辊专用特制48CrMo合金钢锻件；  2、瓦楞辊基本体中频淬火硬度>HRC58       齿高极限偏差≤0.025mm 3、耐磨碳化钨涂层厚度0.06--0.08毫米；       齿顶圆跳动公差≤0.025mm 4、碳化钨涂层显微硬度>HV1250--1400       齿厚极限偏差≤0.03mm  5、结合强度>75MPa       齿廓极限偏差±0.02mm  6、可见金相孔隙率<1%       齿侧面对轴线平等度极限偏差≤0.03mm  7、优化设计的经济性楞型     齿顶圆柱母线直线度≤0.02mm     齿等分极限偏差±20"     中高辊中高度极限偏差为中高值的±5%  8、高速辊精度9、齿表面精细研磨抛光，粗糙度Ra ≤1.6μm更多有关碳化钨瓦楞辊请详见于上海 有色 网

碳化铌是极其硬的耐火陶瓷材料，用于商业工具钻头如切削工具。通常是通过烧结，时常用于烧结硬质合金的添加剂，抗腐蚀性高。铌硬质合金是奥氏体里溶解性极其低的产品，是所有难容金属中最低的，通常是生产微合金化钢的副产品。 这就意味着微米大小的碳化铌沉积物在任何的处理温度下几乎都不溶于钢。微合金化钢基石，效益大，均匀的粒度确保了其韧性和强度。 溶解性较低的唯一经常发生的化合物，因此具有很大的限制钢颗粒生长的潜力的是氮化钛。铌也有许多医学研究应用。铌也可铸成合金生产弧焊接棒和耐腐蚀钢。它的CAS号是12069-94-2.依据粒度，铌合金可以在200-800°C的空气中烧结。铌硬质合金可由化学气相沉积而来。镐合金、铌硬质合金可以用于核反应堆的耐火涂料。Nb(Ta)C(%Min.)化学组成(% Max.)Fisher Size(µm)ONT.CF.CFeSiAlTi99.00.250.0511.00.150.150.020.020.02≤3.0

铸造碳化钨管内成分为W2C和WC合金颗粒,硬度93HRA熔点1600-1800度,采用氧-乙炔焰堆焊,具有较高的耐磨性.适用于石油钻具,建材机械,甘蔗破碎刀具,打井钻头,秸杆还田粉碎机和饲料粉碎机刀片等易磨损件的堆焊使之成为合金耐磨具. 型号 管径mm 管长mm 粒度.适用范围：石油钻井，工程机械，搅拌机绞刀，螺旋，粉碎机叶片等。此焊条为锰，钨-合金粉原料。硬度高。耐磨。耐冲击。耐高温。氧-乙炔温度：1000～2800度。　用途：广泛应用于石油钻具，工程机械，搅拌机绞刀，螺旋，粉碎机叶片，矿业机械，煤炭钻杆，榨糖蔗刀等等！！此焊条的特点是：焊层熔合面牢，硬度高，耐冲击磨损，不脱层，掉块，使用方便，适用直流焊机；焊条不需焊前预热，焊后保温，适用于不同材质，不同用途的堆焊。堆焊层硬度HRC大于80，铸造碳化钨焊条简介铸造碳化钨焊条又称铸造碳化钨合金焊条管内成分为W2C和WC合金颗粒,硬度93HRA熔点1600-1800度铸造碳化钨气焊条又称铸造碳化钨合金焊条管内成分为W2C和WC合金颗粒,硬度93HRA熔点1600-1800度,采用氧-乙炔焰堆焊,具有较高的耐磨性.适用于石油钻具,建材机械,甘蔗破碎刀具,打井钻头,秸杆还田粉碎机和饲料粉碎机刀片等易磨损件的堆焊使之成为合金耐磨具. 型号 管径mm 管长mm 粒度（目） YZ5 4.0 390 60~80 YZ4 5.0 390 40~60 YZ3 6.0 390 30~40 我厂生产的YZ铸造碳化钨耐磨气焊条具有硬度高(采用高标号铸造碳化钨粉),服务优，质量可靠，信誉第一。。。。型号         管径mm   管长mm    粒度（目） YZ5      4.0      390       60~80  YZ4      5.0      390       40~60  YZ3      6.0      390       30~40 此粉块自熔性良好，堆焊的工件无需除锈，它可堆焊在低、中碳钢、低合金钢及铸钢件上，也可在高锰钢和某些灰铸铁上堆焊，用于承受低、中等程度冲击的强磨粒磨损的易损件的制造与修复，焊后硬度为HRC≥79。它主要用于各种叶片、溜槽耐磨钢板、挤压辊辊面、制砖机绞刀、打泥板等零部件的制造和修复。堆焊后可提高使用寿命３－８倍。用量：堆焊面积为１平方米约需粉块10kg或稍多一些，每１kg粉块，堆焊后所获得的耐磨层的重量为1.5kg左右，是任何耐磨堆焊材料所达不到的。用法：１、手工碳弧焊：石墨电极规格：（碳棒）直流：φ10×300、φ12×300、φ15×300；（碳棒）交流：φ8×350、φ10×350；交流弧焊机（空载电压≥70ｖ）。焊钳：采用加长嘴焊钳（防人灼伤）堆焊时，碳棒伸出钳口100ｍｍ左右；堆焊电流200～300ａ，堆焊稀释率50％。２、用耐磨焊条添加粉块手工电弧焊，堆焊电流250ａ～300ａ。fe－05耐磨合金粉块的抗裂性与抗磨性都优于fe－05焊条，主要用于在振动疲劳磨损严重零部件上。第二章　　堆焊实例　一、堆焊装载机的方法与效益１、方法：（１）新铲刃用ｄ－65型堆焊１层，堆焊厚度为3～5mm；堆焊部位为刃板的刃口部及其正背面。堆焊宽度：正面，从刃口部向里堆焊3cm宽：背面（底面），从刃口部向里堆焊6cm宽、刃口全部堆焊；铲刃底面垂直刃口部堆焊层，每隔15cm纵向堆焊一条宽2cm，长16cm的堆焊层。（２）旧铲刃：磨损不严重的铲刃可用ｄ266型堆焊条焊平再用新铲刃的堆焊方法堆焊。2、效益：用上述方法堆焊的装载机铲刃，相当于不堆焊新铲刃的使用寿命３倍。  使用于：建材 行业 ：砖瓦厂、搅刀、搅笼、对滚、锤破、笼破。水泥厂、塔盘、塔尖、筚齿、衬板、鄂板、破石机、锤头、排水叶片、挤压辊、磨滚、挖土机、铲齿、搅拌机叶片。矿产 行业 ：煤矿、溜槽、电铲斗齿、钻头修补。钢厂：大钟、小钟、漏斗。糖厂：造纸厂、建筑、耐火材料厂等企业的搅拌与粉碎。农业：镟耕犁刀、玉米杆粉碎。其它 行业 ：各种易磨损件修补，能达到较理想的效果。更多有关铸造碳化钨请详见于上海 有色 网

利用碳化硅生产磨料过程中产生的碳化硅细粉尾料。碳化硅最初的用途是作为磨具和耐火材料，直到20世纪中期，特别是70年代后，碳化硅超细微粉独特的性能才被人们逐渐认识。因为它具有耐高温、耐磨损、耐腐蚀及高的热传导率等优异性能，被开发的用途越来越多，应用面越来越广，作为一种新型的陶瓷材料，受到人们极大的关注。，开发研究亚微米级碳化硅微粉是近几年是国家科工委重点支持和发展的新项目。碳化硅除大量作为磨料应用外，近几年在精细技术陶瓷领域发展十分迅速，因而我国也成为碳化硅生产大国，年生产碳化硅九十万吨，大部分出口，在碳化硅磨料生产过程中，有很大部分尾料（粒度在10um-0）无应用价值，且库存量很大，是生产磨料厂家解决不掉的难题，给我国资源造成很大的浪费。用气流磨加工碳化硅磨料时,约有5%-15%的物料变成了尾尘.这部分碳化硅微粉由于粒度分布范围很宽,无法直接利用.对气流磨碳化硅尾尘用砂磨机研磨，经过研磨可以得到分布窄、单峰的理想微细粉体。近几年精细技术陶瓷在我国发展十分迅速，具备上述性能的超细微粉生产的碳化硅技术陶瓷，用于制造高性能陶瓷发动机、机械密封件、高温喷火嘴、高温流体输送器件、高温密封器件、高温陶瓷轴承、陶瓷切削道具、军工防弹和车辆防弹装备等。为我国碳化硅结构陶瓷的发展和应用提供优质材料。解决国内碳化硅细料的库存，给企业创造价值。为我国的技术创新提供优质材料，生产亚微米级碳化硅微粉因先进成熟的生产工艺为该产品的出口提供可靠的质量保障，对我国亚微米级碳化硅迅速发展实行 产业 化生产具有十分重要的社会意义和经济效益。碳化硅微粉的生产能力已经成为衡量 产业 发展的重要依据。

含钒钢渣是含钒铁水直接在转炉里按一般碱性单渣法炼钢而得到的钢渣。该种渣成分复杂，又经常波动。含钒钢渣的特点是氧化钙含量高，钒含量较低。研究结果表明，硅酸三钙(Ca3SiO5)，其形状受空间限制，自行性差，一般呈不规则粒状填充于其他矿物格架之间，并包裹其他矿物。硅酸三钙相中V2O5的含量较低，约1.47%，但由于该相在渣中占得比例大，仍有17.88%的V2O5夹杂其中。镁--方铁石系方镁石、方锰石构成的固溶体系列，其分子为(Mg0.58，Fe0.36，Mn0.06)1.00O，该矿物中含钒很少。 钙钛氧化物是一种新矿物，分子式为(Ca3.02，Mn0.013.03(Ti1.36，V0.37，Fe0.23，Mg0.01，Si0.09)2.12O7，可简写成Ca3(Ti，V)2O7。该矿物是一种黑色厚薄不等的长板状矿物，并与其他矿物连生，钒置换钛进入晶格中。该矿物中V2O5含量为9.78%，其钒量占渣中总钒量的78%，是提钒的主要对象。含钒钢渣返回高炉处理是我国首创的一种提钒工艺。它是把含钒钢渣再烧结后返回小高炉，练出含钒2~3%的铁水，再兑入氧气底吹转炉内吹炼，得到V2O5含量高于35~40%的高钒渣。此渣在电炉内直接还原，制取含钒大于35%的钒铁合金。含钒钢渣的特点是氧化钙含量高。用传统的钠盐焙烧--水浸提钒工艺，钒浸出率很低。目前研究出的钠盐焙烧--碳酸化浸出工艺较好的解决了氧化钙的危害。 在含钒钢渣中，钒主要赋存在钒钙钛氧化物中，焙烧时钒钙钛氧化物与碳酸钠反应：2Ca3V2O7+Na2CO3+O2=3CaO+2NaVO3+Ca3(VO4)2+CO2硅钒酸钙与碳酸钠也发生类似反应：2[Ca2SiO4·Ca(VO4)2]+Na2CO3+O2 =2Ca2SiO4+2NaVO3+Ca3(VO4)2+5CaO+CO3烧结后水溶性钒约20%，碳酸化浸出的钒约60%。  焙烧主要技术条件：渣碱比100:18，钢渣的磨细度-200目大于60%，制粒后的粒度直径5~10mm，焙烧温度1100℃，物料停留时间3.7小时。技术指标是：生产能力1.58T·m-2·d-1，烟尘率0.5%，熟料转浸率85%。

碳化钨焊条是采用碳钢为焊芯的低氢钠型药皮的堆焊焊条。依靠药皮中碳化钨合金过渡，堆焊 金属 含钨量40%～50%。由于要皮厚，因而套筒较长，在焊条发红后药皮容易有小块脱落，所以宜用直流电流，焊条节正极，使用较小电流。 　　   1.碳化钨焊条主要 金属 成分 C 1.5 Cr≤3.00 Ni≤3.00-7.00 Si≤1.00 W≥6.0-7.5 焊条用碳化钨过渡堆焊 金属 含钨60%-80%工艺精良脱渣方便电弧稳定！ 　　   2.碳化钨焊条用途：适用于受剧烈磨粒磨损部件的修复和堆焊耐岩石强烈磨损之机械零件。如：混泥土搅拌叶片、推土机和泵浦叶片、挖泥机叶片、高速混沙箱，螺旋推进器（蛟龙）叶片，排风机叶轮，搅拌机叶片，泥浆泵，煤矿溜槽，水泥厂塔盘、塔尖、筚齿、衬板、鄂板、破石机、锤头、电铲斗齿、钻头修补等的堆焊等。堆焊层硬度HRC≥65 　　   3.碳化钨焊条特点：焊条不需要焊前预热，焊后保温，高硬度、高耐磨、耐冲刷磨损等。耐磨性好、抗岩石砂磨粒磨损，延长设备使用寿命4-8倍。   碳化钨粉(WC)是生产硬质合金的主要原料，化学式WC。全称为 Wolfram Carbide, 也译作tungsten carbide为黑色六方晶体，有 金属 光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体。熔点2870℃, 沸点6000℃，相对密度 15.63(18℃)。碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸，易溶于硝酸－氢氟酸的混合酸中。纯的碳化钨易碎，若掺入少量钛、钴等 金属 ，就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨，常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物，以提高抗爆能力。碳化钨的化学性质稳定。   碳化钨粉呈深灰色粉末，能溶于多种碳化物中，尤其是在碳化钛中的溶解度很大，形成TiC-WC固熔体。钨与碳的另一个化合物为碳化二钨，化学式为 W2C，熔点为2860℃，沸点6000℃,相对密度17.15。其性质、制法、用途同碳化钨.   碳化钨粉主要用于生产硬质合金。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成间隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等。   铸造碳化钨气焊条 耐磨铸造碳化钨气焊条是以铸碳化钨为硬质相，以优质低碳钢为粘结 金属 的焊条合金，主要用氧-乙炔堆焊，多采用中性焰或微带碳化焰。施焊温度控帛在1600-1700℃左右，被堆焊工件局部加热到850-950℃,再施焊,氧气压力0.2-0.6MPa.乙炔压力0.02-0.1MPa.为获得良好的堆焊层要注意正确掌握堆焊温度,调整好火焰成份。 用于石油钻具、工程机械、搅拌机叶片、粉碎机刀片、（糖厂轧辊、蔗刀）等。更多有关碳化钨焊条请详见于上海 有色 网

碳化硅制品具有具有耐磨、耐腐、耐高温导热等性能。碳化硅制品的用途：碳化硅制品具有耐磨，抗热震，高强度，升温快等特性。广泛用于电阻炉用耐火材料，井式炉，管状炉及电炉板。碳化硅制品时使用碳化硅砂，根据不同的用途，采用各种结合剂高温烧结而成。广泛应用于钢铁、矿山、发电厂、化工和 有色金属 冶炼等 行业 。产品种类可分为：一、砖类。各种普异型砖，用于各类炉体的砌筑；二、管槽类。各种形状直径不同管和槽用于钢铁、矿山、电厂的输煤除渣、防腐、耐磨。三是泵类。各种型号的碳化硅耐磨泵、喷沙嘴、出入口耐磨管等。四是塔器。各类塔盘、容器，用于 有色金属 冶炼和化工行碳化硅业。碳化硅制品广泛应用于矿山冶金等 行业 。

 碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种。其硬度介于刚玉和金刚石之间,机械强度高于刚玉。黑碳化硅是以石英砂,石油焦和优质硅石为主要原料,通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间,机械强度高于刚玉,性脆而锋利。绿碳化硅含SiC99％以上，自锐性好，大多用于加工硬质合金、钛合金和光学玻璃，也用于珩磨汽缸套和精磨高速钢刀具。黑碳化硅含SiC约98.5％，其韧性高于绿碳化硅，大多用于加工抗张强度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、铸铁和 有色金属 等。绿碳化硅是以石油焦和优质硅石为主要原料,添加食盐作为添加剂，通过电阻炉高温冶炼而成。

钒是高熔点稀有金属，密度5.96，熔点1890℃，沸点3380℃，有耐性，在中加热变脆，含氧和氮的钒也有脆性。钒是电的不良导体，其电导率仅为铜的十分之一。室温下，钒不与氧效果，在加热条件下被氧化成VO、V2O3、VO2、V2O5，高温下与大都非金属元素(如氮、碳、硫)发作反响。钒还能与铝、钴、铜、铁、锰、钼、镍、钯、锡、硅构成合金。钒的氧化态为-1、+1、+2、+3、+4、+5，一般+2和+3价钒的氢氧化物呈碱性，+4和+5价钒的氢氧化物呈，+5价钒在不同酸度的水溶液中构成不同组成的钒酸盐。在常温下，钒有较好的抗蚀性，本领、稀硫酸、碱溶液和海水腐蚀，但能被硝酸、或浓硫酸腐蚀。 钒在地壳中常与其他元素伴生，富集成工业矿床的很少。首要涣散于钒钛磁铁矿、铀矿、磷矿、铝钒土及煤炭中。钒的矿藏首要有绿硫钒矿(V2S+nS)、钒云母〔K2(Mg，Fe)(Al，V)4Si12O32•4H2O〕、钒铅矿〔PbCl2•3Pb3VO4〕2〕、钒钾铀矿(K2O•2V2O3•V2O5•3H2O)等。 钒矿的分化办法有：①酸法，用硫酸或处理后得到(VO2)2SO4或VO2Cl。②碱法，用或碳酸钠与矿石熔融后得到NaVO3或Na3VO4。③氯化物焙烧法，用食盐和矿石一同焙烧得到NaVO3。 金属钒的制取：含钒的矿藏经处理后得到五氧化二钒，再将五氧化二钒用碳、硅、铝复原得到金属钒;或用、镁复原的办法制取金属钒。 钒是冶金工业的重要质料。在钢铁中，钒首要是以钒铁的方式参加，首要起脱氧和脱氮的效果，一起可进步钢的强度、耐性、淬透性和回火稳定性。现在，90%的钒用作钢铁增加成分出产高强度低合金钢、高速钢、工具钢、轴承钢、耐热钢、不锈钢和铸铁等。钒还用于钛合金、钴和镍基高温合金的增加剂。 V2O5广泛用作有机和无机氧化反响的催化剂，用于出产硫酸、精粹石油。钒在电子工业中可用作电子管的阴极、栅极、X射线靶、真空管加热灯丝。硅化钒和镓化钒是杰出的金属间化合物超导材料。在玻璃工业，钒可用于制作吸收紫外线的玻璃，以及用于制作护目玻璃和防护屏等。

2010年国内碳化硅的 价格 仍将趋于平稳。我国碳化硅的主要分布在甘肃、宁夏、青海、新疆、河南、四川、贵州、湖北等地区。全国黑碳化硅产能约100万吨左右。其中甘肃地区约占50%，宁夏约占25%，其他地区黑碳化硅产能约占25%。绿碳化硅产能在55万吨左右，其中青海、四川、新疆为主产区，产能占80%以上。2008年到2009年，国内碳化硅 市场价格 呈暴涨、暴跌、持续下跌、反弹的 走势 。  2008年上半年，因担心奥运会期间影响原料供应，制品企业大量备货，原燃料 价格 大幅上涨，碳化硅也进入暴涨期。其中，4-5月一级碳化硅涨势最为迅猛，涨幅超过30%，创单月涨幅最高。7月份，电价统一上调，加之原料无烟煤 价格 的上涨，为碳化硅 价格 上涨再度提供动力。到奥运前，一级碳化硅 价格 已经涨至8000元/吨，为2008年历史最高，较年初碳化硅 价格 增长74%。  奥运结束后，前期备货较多的企业开始消化库存， 市场交易 量开始下滑。2008年9月金融危机全面爆发，低迷的 市场 需求导致碳化硅 价格 迅速下滑。从2008年9月到2009年1月，碳化硅一路下跌，一级碳化硅降幅23.38%。在此期间，因需求不旺，碳化硅 市场交易 量大幅下降，国内碳化硅生产企业停产、减产来应对金融危机。11月底，政府为刺激经济，下调电价，但电价的下调，再次推动碳化硅 价格 的走低，并未带动当地电石、铁合金、硅铁、碳化硅等耗能企业动工复产。  进入2009年，因 市场 需求不旺，一级碳化硅难以承受库存压力， 价格 继续走低。5月份，丰水期优惠电价的实施，为碳化硅 价格 下滑再一次提供动力。二级黑碳化硅在满足国内 市场 的同时，多数出口到国外 市场 ，供应略显紧张，因此二级碳化硅全年 价格 波动较小。  2009年底，国家统一上调电价。西北各地区根据实际情况上调电价，其中甘肃地区电价上调0.08元/千瓦时，宁夏地区上调0.05元/千瓦时，青海地区电价上调超过0.03元/千瓦时，一时间碳化硅 价格 迅速上涨，最低上调200元/吨，最高上调500元/吨。此时，原料无烟煤和石油焦 价格 开始上涨，涨幅接近30%。碳化硅 价格 开始反弹，但下游 市场 需求仍处于低迷状态。2010年，我国有关部委将着力开展提升优化传统 产业 、抑制过剩产能扩张，开展节能降耗、减排治污，淘汰落后产能等工作。  我国碳化硅总产能约155万吨，产能严重过剩。2009年，西北地区黑、绿碳化硅产能均有增长，但各地区均存在部分落后产能。2010年，各地区将采取实质性措施提高 产业 集中度。其中，青海省政府决定在2010年底前，淘汰6300KVA以下的冶炼炉；宁夏地区将继续对铁合金、碳化硅等 行业 实施能耗电价联动机制，最大限度地降低高载能产品单耗；甘肃省也将继续对小功率冶炼炉进行整顿。在国家对高耗能 行业 进行控制的情况下，下一步相关部门将对电价、 行业 准入标准进行相应调整，或推动碳化硅成本增加， 价格 走高。  2010年，我国将继续实施积极的财政政策和适度宽松的货币政策。中国国务院发展研究中心称，2010年中国经济有望出现相对温和的增长和较低 价格 上涨的良好局面，国内生产总值(GDP)增长率预计在9.5%。国内经济的稳步增长将在一定程度上带动国内碳化硅 市场 需求。  工信部部长李毅中指出，2009年我国出口下降16%，2010年预计出口增长8%。在全球经济回暖预期加强的情况下，2010年碳化硅出口情况将好于2009年。虽然出口形势比较乐观，外贸企业仍应时刻关注国际经济形势和汇率变化情况。目前国内碳化硅的 价格 趋于平稳。

 碳化硅的用途主要体现在四大领域的五大用途。碳化硅主要有四大领域,即: 功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。目前碳化硅粗料已能大量供应, 不能算高新技术产品,而技术含量极高的纳米级碳化硅粉体的应用短时间不可能形成规模经济。碳化硅的5大主要用途1? 有色金属 冶炼工业的应用利用碳化硅具有耐高温,强度大,导热性能良好,抗冲击,作高温间接加热材料,如坚罐蒸馏炉?精馏炉塔盘,铝电解槽,铜熔化炉内衬,锌粉炉用弧型板,热电偶保护管等?2?钢铁 行业 方面的应用利用碳化硅的耐腐蚀?抗热冲击耐磨损?导热好的特点,用于大型高炉内衬提高了使用寿命?3?冶金选矿 行业 的应用碳化硅硬度仅次于金刚石,具有较强的耐磨性能,是耐磨管道?叶轮?泵室?旋流器,矿斗内衬的理想材料,其耐磨性能是铸铁.橡胶使用寿命的5—20倍,也是航空飞行跑道的理想材料之一?4?建材陶瓷,砂轮工业方面的应用利用其导热系数?热辐射,高热强度大的特性,制造薄板窑具,不仅能减少窑具容量,还提高了窑炉的装容量和产品质量,缩短了生产周期,是陶瓷釉面烘烤烧结理想的间接材料?5?节能方面的应用利用良好的导热和热稳定性,作热交换器,燃耗减少20%,节约燃料35%,使生产率提高20-30%?特别是矿山选厂用排放输送管道的内放,其耐磨程度是普通耐磨材料的6—7倍? 碳化硅的用途 非常广泛。 

含钒溶液经净化后，钒多以五价钒酸根存在。随溶液酸度增加，钒酸根会以钒酸的形式析出，俗称红饼。钒的水解主要取决于酸度、温度、钒浓度及杂质的影响。析出的沉淀也会因pH值、钒浓度的变化呈不同的聚合状态。有关的机理在认识上还不统一。大致可勾画如下，由图1及图2关于钒酸水溶液的性质图可以看出：钒浓度／（mol·L－1）溶液pH值主要的钒离子水解产物低，10－4酸性低4～8高，50×10－32～3高，50×10－31～6高，50×10－310～12高，50×10－313～当pH值约1.8时，V2O5的溶解度最小，约230mol／L。V2O5与H2SO4之间的浓度关系如下：[H2SO4]／（g·L－1）2.312.017.121.2V2O5／（g·L－1）0.240.781.142.04 表1列出一组V2O5－H2SO4－H2O系的数据。 表1  V2O5－H2SO4－H2O系统平衡数据30℃75℃V2O5／%H2SO4／%密度／（g·㎝－3）析出相V2O5／%H2SO4／%析出相1.637.31.066①1.4817.43①4.7923.51.219①2.0024.18①7.437.261.370①5.0633.0①4.4145.01②5.4838.02②5.554.361.519②5.2741.01②9.1460.421.661②5.1346.56②5.4466.76③8.0952.31③1.5974.67③9.0857.33③6.2173.26④10.860.20④0.27680.411.727④7.514.98④0.05399.161.817④7.5270.50④9.2640.491.440①②0.1393.44④10.4962.221.734②③6.1034.30①②1.5077.481.714③④8.2949.53②③11.9657.56③④表中析出相：①V2O5·3H2O，V2O5 红褐色、针状； ②V2O5·2 H2O，2SO3·8H2O 粉红色、无定形、棕红色、针状； ③V2O5·H2O，V2O5·2SO3·3H2O 淡黄、针状、红色、柱状； ④V2O5，V2O5·5SO3·4H2O 黄色、针状、黄色、晶状。 对钒水解有重要影响的因素有温度、酸度、钒浓度及杂质含量等。图1  图2  V2O5溶解度与pH的关系（25℃） 1—V2O5／ ，lg ＝－0.82－pH；2—不析出V2O5 lg ＝－0.04－pH；3—V2O5／ ，lg ＝－4.44＋pH； 4—不析出V2O5，lg ＝－3.00＋pH；5— ／ ， pH＝1.03－0.333 lg ；6— ／ ，pH＝2.62； 7— ／ ，pH＝7.38＋lg图2  钒在水溶液中的状态与钒浓度及pH的关系（25℃） 一、温度 钒水解沉淀应在90℃以上进行，最好在沸腾状态。不同温度及酸度下沉淀率与时间的关系见图3。图3  沉淀率与时间的关系：Ⅰ－0.855；Ⅱ－0.954；Ⅲ－1.16；Ⅳ－1.18 二、钒浓度 溶液中含V以5～8g／L为宜。浓度过高，则结晶成核过快，易形成疏松的滤饼，吸附较多杂质及游离水。红饼组成xNa2O·yV2O5·z H2O中的x／y偏大。当溶液中含钒浓度低时，则会有负面影响。 三、杂质的影响 磷与钒形成稳定的络合物H7[P（V2O5）6]，还与Fe3＋、Al3＋形成磷酸盐沉淀，会污染红饼。为此要求净化后液含P小于0.15g／L。当酸度较高时，可使FePO4、AlPO4的溶解度提高，而减少磷对红饼的污染。 硅、铬、铝、铁等离子浓度较高时，水解生成的胶体沉淀物，妨碍V2O5晶体的长大，使水解速度变慢，生成的红饼沉降、过滤困难。适当提高酸度，可以改善此类不良的影响。 氯离子可以加快钒水解沉淀的速度。而硫酸钠含量在20～160g／L，会使钒水解沉淀速度下降，主要表现为延长晶核孕育期。氯化钠或硫酸钠过多都会使红饼中V2O5含量降低。 四、搅拌 钒的水解沉淀是一个伴有热量、质量传递的水解反应过程，因此必须保持适宜的搅拌速度，已达到临界悬浮状态，没有任何死角为宜。工业用的机械搅拌沉钒罐为圆柱形，内径2～5m，容积4～5m3。罐内壁衬耐酸瓷砖或辉绿岩。中心安装不锈钢搅拌器。罐壁附近设不锈钢蒸汽加热管。 水解沉钒是间歇作业，先加入25%的沉钒前液，开始搅拌，再加入所需的硫酸，然后通蒸汽加热到90℃以上接近沸点。继续添加剩余的75%的沉钒前液。最后分析溶液中游离酸及钒的浓度，调整酸度或补加沉钒前液，以使最后溶液中含钒小于0.1g／L为终点。停止加热、搅拌、再静置10～20min后过滤，即得红饼。根据生产规模，过滤设备可采用吸滤盘、压滤机或鼓式真空过滤机。 红饼须先经干燥去除水分，再在1073～1173K温度下熔化，浇铸成片状，作为炼钒铁的原料。 水解沉钒早期用得比较普遍，但所产红饼熔片V2O5的含量仅为80%～90%，纯度较低，且耗酸量大，污水量大，故现已基本为铵盐沉钒所取代。

碳化氯化与直接氯化分化锆英砂的办法相同，可用于制取和、铪，但也可用于出产二氧化锆和其他锆化学制品。此法的工艺流程见图1，碳化在温度高于2000℃的高温电弧炉中进行；碳（氮）化锆在400℃即可被氯化成为，首要反应为： ZrSiO4＋4C＝ZrC＋SiO（g）↑＋3CO ZrSiO4＋4N2＝ZrN＋SiO（g）↑＋3NO ZrC＋2Cl2＝ZrCl4（g）＋C ZrN＋2Cl2＝ZrCl4（g）＋1/2N2图1  碳化氯化法分化锆英砂工艺流程     水溶、结晶可获得碱式氯化锆再进行后处理。

碳化钨粉 价格 是投资者想知道的信息，因为了解它可以帮助操作。 碳化钨粉 价格用途：是生产硬质合金，金钢石工具，钻头，各种硬质合金刀具的主要原料。性状：深灰色粉末含量：WC>99.7粒度：-200目，-300目目前碳化钨粉 价格 持续保持稳定，江西地区原生中颗粒碳化钨粉的签单含税 价格 持续保持在2000元/公斤。近期原料 市场 APT成交 价格 较前期略有回升，但是对碳化钨粉 市场 影响不大。碳化钨粉主要用于生产硬质合金。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成间隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物碳化钨高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等用 金属 钨粉和炭黑为原料，按一定比例配成混合料，将混合料装入石墨舟皿中，置于炭管炉内或高中频感电炉中，在一定温度下进行炭化，再经球磨、筛分即得碳化钨粉。碳化钨粉的技术条件是GB/T4295—93，一般执行的是企业内控标准，部分企业技术条件见表6-6-42、表6-6-43。碳化钨表6-6-42 碳化钨粉质量规格 　　类 别 费氏平均粒度(μ) 总碳量(%) 游离碳(%) 　　WC-1 ≤1.0 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-2 1～1.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-3 2～3.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-4 4～5.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-5 6～7.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-6 8～11.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-7 12～15.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-8 ≥16 6.08～7.18 ≤0.08 　　表6-6-43 碳化钨粉化学成分指标 　　级别含量% WC Fe Mo Al Si Ca Mn Mg Ni Na 　　FWC-1 ≥99.8 ≤0.04 ≤0.010 ≤0.001 ≤0.01 ≤0.005 ≤ 0.002 ≤0.002 ≤0.005 ≤0.003 　　FWC-2 ≥99.7 ≤0.06 ≤0.015 ≤0.002 ≤0.01 ≤0.008 ≤ 0.002 ≤0.004 ≤0.008 ≤0.005包装　　一般采用内塑料袋封口，外铁桶包装，每桶净重不超过50kg。检验标准　　出口碳化钨粉化学成分仲裁分析方法按照GB4324—84进行，费氏平均粒度按GB3249—82进行，取样方法参照GB5314—85进行，主含量(WC)采用差减法计算。如果你想更多的了解关于碳化钨粉 价格 的信息，你可以登陆上海 有色 网进行查询和关注。

再生碳化钨粉是投资者想知道的信息，因为了解它可以帮助操作。 产品名称：再生碳化钨粉规格：桶再生碳化钨粉规格：三氧化钨含量大于85度，钴、镍、铁、铜不超标。用途：可以用于生产钨酸钠、APT、钨铁。包装：编织袋内衬塑料袋50公斤。再生碳化钨粉就是指用已经球磨或者已经生产成了合金但是不合格的料，通过更加进一步的加工返处理用来在生产合金的原料。再生WC的原料比原生的药差很多，一般只能够用来做低档的合金产品。碳化钨粉主要用于生产硬质合金。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成间隙固溶体，因此也称填隙（或插入）化合物。碳化钨可由钨和碳的混合物碳化钨高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理, 以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等用 金属 钨粉和炭黑为原料，按一定比例配成混合料，将混合料装入石墨舟皿中，置于炭管炉内或高中频感电炉中，在一定温度下进行炭化，再经球磨、筛分即得碳化钨粉。碳化钨粉的技术条件是GB/T4295—93，一般执行的是企业内控标准，部分企业技术条件见表6-6-42、表6-6-43。碳化钨表6-6-42 碳化钨粉质量规格 　　类 别 费氏平均粒度(μ) 总碳量(%) 游离碳(%) 　　WC-1 ≤1.0 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-2 1～1.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-3 2～3.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-4 4～5.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-5 6～7.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-6 8～11.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-7 12～15.99 6.08～6.18 ≤0.08 　　WC-8 ≥16 6.08～7.18 ≤0.08 　　表6-6-43 碳化钨粉化学成分指标 　　级别含量% WC Fe Mo Al Si Ca Mn Mg Ni Na 　　FWC-1 ≥99.8 ≤0.04 ≤0.010 ≤0.001 ≤0.01 ≤0.005 ≤ 0.002 ≤0.002 ≤0.005 ≤0.003 　　FWC-2 ≥99.7 ≤0.06 ≤0.015 ≤0.002 ≤0.01 ≤0.008 ≤ 0.002 ≤0.004 ≤0.008 ≤0.005化学式WC。为黑色六方晶体，有 金属 光泽，硬度与金刚石相近，为电、热的良好导体。熔点2870℃，沸点6000℃，相对密度 15.63(18℃)。碳化钨不溶於水、盐酸和硫酸，易溶於硝酸－氢氟酸的混合酸中。纯的碳化钨易碎，若掺入少量钛、钴等 金属 ，就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨，常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物，以提高抗爆能力。碳化钨的化学性质稳定。在碳化钨中，碳原子嵌入钨 金属 晶格的间隙，并不破坏原有 金属 的晶格，形成填隙固溶体，因此也称填隙(或插入)化合物(见图 碳化钨的晶体结构 )。碳化钨可由钨和碳的混合物高温加热制得，氢气或烃类的存在能加速反应的进行。若用钨的含氧化合物进行制备，产品最终必须在1500℃进行真空处理，以除去碳氧化合物。碳化钨适宜在高温下进行机械加工，可制作切削工具、窑炉的结构材料、喷气发动机、燃气轮机、喷嘴等。钨与碳的另一个化合物为碳化二钨，化学式为 WC，熔点为2860℃，沸点6000℃，相对密度17.15。其性质、制法、用途同碳化钨。如果你想更多的了解关于再生碳化钨粉的信息，你可以登陆上海 有色 网进行查询和关注。